[发明专利]晶体管、晶体管的制造方法、及使用该晶体管的显示装置在审
| 申请号： | 201910900911.2 | 申请日： | 2019-09-23 |
| 公开（公告）号： | CN110957372A | 公开（公告）日： | 2020-04-03 |
| 发明（设计）人： | 田中荣 | 申请（专利权）人： | 三国电子有限会社 |
| 主分类号： | H01L29/786 | 分类号： | H01L29/786;H01L27/12;H01L27/32;H01L21/77 |
| 代理公司： | 北京博雅睿泉专利代理事务所(特殊普通合伙) 11442 | 代理人： | 石伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明的晶体管具有：氧化物半导体层，其配置在衬底上，且包含靠近衬底的第1区域、及配置在所述第1区域的和所述衬底侧相反的面上且载流子浓度低于所述第1区域的第2区域；第1栅极电极，其具有和所述氧化物半导体层重叠的区域，且配置在所述氧化物半导体层的和所述衬底侧相反的面上；第1绝缘层，其位于所述第1栅极电极和所述氧化物半导体层之间；以及第1氧化物导电层及第2氧化物导电层，它们配置在所述氧化物半导体层和所述衬底之间，且包含和所述氧化物半导体层相接的区域。 | ||
| 搜索关键词： | 晶体管 制造 方法 使用 显示装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三国电子有限会社，未经三国电子有限会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910900911.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：塑化装置及三维造型装置
- 下一篇：一种减肥茶中西布曲明的拉曼快速检测方法
- 同类专利
- 专利分类
