[发明专利]光酸发生剂在审
| 申请号： | 201910842301.1 | 申请日： | 2011-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN110531581A | 公开（公告）日： | 2019-12-03 |
| 发明（设计）人： | J·W·撒克里;S·M·科利;J·F·卡梅伦;P·J·拉博姆;O·昂格伊;V·杰恩;A·E·麦德考尔 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料有限公司;陶氏环球技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/039;G03F7/00 |
| 代理公司： | 31100 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 陈哲锋<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： |
光酸发生剂。一种以式(I)所示的光酸发生剂化合物：G+Z‑(I)，其中G具有式(II) |
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| 搜索关键词： | 式( I ) 光酸发生剂 光致抗蚀剂 单环 多环 光酸发生剂化合物 烷基 磺酸阴离子 磺胺 电子设备 磺酰亚胺 涂敷薄膜 聚合物 环烷基 芳基 | ||
【主权项】：
1.一种光致抗蚀剂，所述光致抗蚀剂包括以式(I)所示的化合物、淬灭剂和包括光敏官能团的聚合物：/nG+Z- (I)/n其中G+是/n
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