[发明专利]一种用于评估高反射率膜损耗稳定性的测试方法有效
| 申请号： | 201910831127.0 | 申请日： | 2019-09-04 |
| 公开（公告）号： | CN110596174B | 公开（公告）日： | 2021-03-30 |
| 发明（设计）人： | 曾慧中;杨潇;幸代鹏;张文旭;张万里 | 申请（专利权）人： | 电子科技大学 |
| 主分类号： | G01N23/2273 | 分类号： | G01N23/2273;G01N23/2202 |
| 代理公司： | 电子科技大学专利中心 51203 | 代理人： | 闫树平 |
| 地址： | 611731 四川省成*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明属于材料测试技术领域，具体涉及了一种用于评估高反射率膜损耗稳定性的X射线辐照测试方法。本发明利用X射线的电荷积累效应，模拟高反膜因荷电积累的失效过程：采用的X射线源对高反膜表面进行荷电处理，在累积的处理过程中；同时利用光电子能谱仪原位监测高反膜表面化学态的变化，间断的进行XPS分析，检测高反膜表面的各元素的化学态变化。通过对随机选取的失效组样品和非失效组样品进行统计分析，并引入α和β参数描述O1s峰的对称性，只用到了两个拟合参数，就可以评估辐照荷电老化时的损耗变化，便于工程实际应用，是一种方便、快捷的判别方法。特别适合用于膜层材料工艺实验的快速优化、工艺监控等环节。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 评估 反射率 损耗 稳定性 测试 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于评估高反射率膜损耗稳定性的测试方法，具体步骤如下：/n步骤1：对待测高反膜进行初始状态XPS采谱；/n步骤2：采谱完成后，关闭XPS设备的中和器，通过设备自带的X射线对样品进行2-7分钟辐照，使得高反膜表面有电荷积累；/n步骤3：辐照完毕后，立即开启中和器，对辐照后的高反膜进行XPS测试；/n步骤4：重复步骤2、3，对高反膜进行总计2-7次辐照和3-8次XPS测试；/n步骤5：对获得的所有待测高反膜样品的XPS光电子谱进行分析，分析辐照前后O1s峰的形状变化，O1s峰对称性差的样品其损耗大；/n步骤6：对O1s峰进行高斯-洛伦兹线型GL30拟合，并引入α和β参数描述Gaussian-Lorentz函数的分对称性；/n当α＝β＝1.0时，峰形为标准的对称峰，当α或β偏离1.0时，峰形对称性出现差异。其中，α和β的大小分别对应O1s左、右两侧峰形偏离的对称Gaussian-Lorentz峰的程度；峰形函数LA数学形式为
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