[发明专利]光刻机的套刻误差校正方法及系统、光刻机有效
| 申请号： | 201910818849.2 | 申请日： | 2019-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN112445077B | 公开（公告）日： | 2022-12-16 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 长鑫存储技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 罗平 |
| 地址： | 230000 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光刻机的套刻误差校正方法及系统、光刻机。该方法包括：获取闲置时间，所述闲置时间指当前批次曝光工艺开始前光刻机的非曝光时间；光刻机进行当前批次第一片晶圆曝光前通过闲置时间与套刻补偿值的关系模型及闲置时间获取第一片晶圆对应的套刻补偿值，所述光刻机根据所述对应的套刻补偿值对第一片晶圆进行曝光，消除了当前批次曝光工艺开始前光刻机的闲置时间对当前批次第一片晶圆的套刻精度的影响，消除了同批次产品进行曝光工艺时的第一片效应。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 误差 校正 方法 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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