[发明专利]一种高世代平板用ITO蚀刻液在审
| 申请号： | 201910780340.3 | 申请日： | 2019-08-22 |
| 公开（公告）号： | CN110564420A | 公开（公告）日： | 2019-12-13 |
| 发明（设计）人： | 梁小朝;连杰;姚浩川;黄德新 | 申请（专利权）人： | 合肥中聚合臣电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C09K13/06 | 分类号： | C09K13/06 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 231600 安徽省合*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种高世代平板用ITO蚀刻液，包括盐酸、醋酸、金属盐，表面活性剂、消泡剂和水各原料按比例混合而成，所述各原料重量比为：盐酸10～30％，醋酸1～10％，金属盐0.1～1％，表面活性剂0.05～0.5％，消泡剂0.1～1％，水余量，所述各原料重量比为：盐酸22％，醋酸7％，金属盐0.5％，表面活性剂0.2％，消泡剂0.07％，余量的水，所述金属盐使用碱性金属盐，碱金属盐使用盐酸钾，所述水使用纯水，水中杂质离子不超过100ppm所述盐酸浓度为35％，醋酸浓度为90％，盐酸钾纯度为98％。本发明中，ITO蚀刻液在蚀刻过程中完全不产生蚀刻残渣；有效抑制有效起泡，没有大量泡沫产生；能够在温和的工作条件下对无定形ITO膜高效且高精度地进行蚀刻；并且工艺操作十分方便、易于控制。 | ||
| 搜索关键词： | 盐酸 醋酸 金属盐 表面活性剂 消泡剂 蚀刻 原料重量比 蚀刻液 按比例混合 碱性金属盐 起泡 工艺操作 碱金属盐 泡沫产生 蚀刻残渣 水中杂质 有效抑制 水余量 无定形 离子 世代 | ||
【主权项】：
1.一种高世代平板用ITO蚀刻液，其特征在于,包括盐酸、醋酸、金属盐，表面活性剂、消泡剂和水各原料按比例混合而成，所述各原料重量比为：盐酸10～30％，醋酸1～10％，金属盐0.1～1％，表面活性剂0.05～0.5％，消泡剂0.1～1％，水余量。/n
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