[发明专利]一种改善大尺寸硅片制绒均匀性的方法和装置在审
| 申请号： | 201910734395.0 | 申请日： | 2019-08-09 |
| 公开（公告）号： | CN110459647A | 公开（公告）日： | 2019-11-15 |
| 发明（设计）人： | 刘晓瑞;王茜茜;周浩;职森森;吴仕梁;路忠林;张凤鸣 | 申请（专利权）人： | 江苏日托光伏科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L31/18 | 分类号： | H01L31/18;H01L31/0236;H01L21/02;C30B33/10 |
| 代理公司： | 32326 南京乐羽知行专利代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 朱磊<国际申请>=<国际公布>=<进入国 |
| 地址： | 214028江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种改善大尺寸硅片制绒均匀性的方法和装置，属于光伏设备技术领域。包括将大尺寸硅片依次经过预清洗臭氧‑碱抛‑前处理臭氧‑制绒‑后处理臭氧‑混酸‑烘干的步骤，得到绒面均匀的大尺寸硅片。本发明创造性的提出一种改善大尺寸硅片制绒均匀性的方法，增加含HF的臭氧预清洗槽，可提高清洗效果，改善因脏污导致的绒面不均一和绒面不良的情况，降低不良比例，降低生产成本；各臭氧槽体采用槽盖喷淋的形式代替臭氧槽之后的水洗槽，降低设备成本。底部和两个槽侧壁均设置鼓泡气管，解决了加深的槽体中底部鼓泡无法到达溶液上部和表面的问题，保证了大尺寸硅片制绒过程中的均匀性，提高了绒面质量。 | ||
| 搜索关键词： | 大尺寸硅片 臭氧 制绒 均匀性 绒面 槽体 鼓泡 方法和装置 后处理 光伏设备 降低设备 清洗效果 预清洗槽 槽侧壁 前处理 水洗槽 预清洗 槽盖 和绒 烘干 混酸 均一 喷淋 脏污 气管 加深 保证 | ||
【主权项】：
1.一种改善大尺寸硅片制绒均匀性的方法，包括将大尺寸硅片依次经过预清洗臭氧-碱抛-前处理臭氧-制绒-后处理臭氧-混酸-烘干的步骤，得到绒面均匀的大尺寸硅片。/n
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射，或微粒辐射敏感的，并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件；专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的，例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的，一个或多个电光源，如场致发光光源在结构上相连的，并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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