[发明专利]一种中性密度滤光片的制备方法

摘要

本申请提供了本申请提供了一种中性密度滤光片的制备方法,包括如下步骤：根据所设滤光片的最大光密度值、最小光密度值和预设的膜台阶的数目确定每个膜台阶的预设光密度值；根据每个膜台阶的预设光密度值和镀膜材料确定每个膜台阶的预设镀膜厚度；按照膜台阶的预设镀膜厚度由小到大逐级镀膜，在基片上形成膜台阶，在镀膜的过程中，用遮挡板遮挡已经完成镀膜的膜台阶和不需要镀膜的区域，并且，每个台阶镀膜完成后都进行厚度检测和厚度控制的操作。采用上述制备方法，不需要制做特殊形状的遮挡板，且能适用于多种形状的滤光片的制作，滤光片的精度高，可以用于感光材料灵敏度的测量。

主权项

1.一种中性密度滤光片的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：根据所设滤光片的最大光密度值、最小光密度值和预设的膜台阶的数目确定每个膜台阶的预设光密度值；根据每个膜台阶的预设光密度值和镀膜材料确定每个膜台阶的预设镀膜厚度；按照膜台阶的预设镀膜厚度由小到大逐级镀膜，在基板上形成膜台阶，在镀膜的过程中，用基板遮挡已经完成镀膜的膜台阶和不需要镀膜的区域；每个膜台阶的镀膜完成后，测量对应膜台阶的光密度值，并与对应膜台阶的预设光密度值进行比对：当测量的所述光密度值大于对应膜台阶的预设光密度值的时候，采用霍尔离子源用氩离子束轰击减薄对应膜台阶的实际镀膜厚度；当测量的所述光密度值小于对应膜台阶的预设光密度值时，进行二次镀膜。