[发明专利]一种中性密度滤光片的制备方法

说明书

本申请提供了本申请提供了一种中性密度滤光片的制备方法,包括如下步骤：根据所设滤光片的最大光密度值、最小光密度值和预设的膜台阶的数目确定每个膜台阶的预设光密度值；根据每个膜台阶的预设光密度值和镀膜材料确定每个膜台阶的预设镀膜厚度；按照膜台阶的预设镀膜厚度由小到大逐级镀膜，在基片上形成膜台阶，在镀膜的过程中，用遮挡板遮挡已经完成镀膜的膜台阶和不需要镀膜的区域，并且，每个台阶镀膜完成后都进行厚度检测和厚度控制的操作。采用上述制备方法，不需要制做特殊形状的遮挡板，且能适用于多种形状的滤光片的制作，滤光片的精度高，可以用于感光材料灵敏度的测量。

技术领域

本申请涉及中性密度滤光片的技术领域，尤其涉及一种中性密度滤光片的制备方法。

背景技术

中性密度滤光片，又叫中性密度衰减片，中性密度滤光器、中性密度滤光镜，是在较宽的光谱范围内对光能量进行同比例的均匀衰减的分光光学元件，是利用物质对光的吸收特性，制成片状，放在光路上，可以对光信号起到衰减调节作用。广泛应用于各类对光能量衰减有特殊要求的仪器和实验中。这种片状的光学元件也称为光学衰减片或中性密度滤光片。

在中性密度滤光片的制造行业中，滤光片分为透射式与反射式，包括固定式密度滤光片，线性渐变密度滤光片，阶梯型渐变密度滤光片。滤光片对光的吸收与材料有关也与材料的厚度有关。金属钨与金属钯的薄膜在可见光至近红外区域拥有很好的中性度，但是由于其熔点太高不好制备光学薄膜，一般不选择这两种薄膜。

中性密度滤光片广泛应用于各种光学系统如医疗设备光探测器，临床生化分析设备，电子显像系统以及感光材料灵敏度测量系统等，因此人们也希望其光密度值更加精确，中性度更加良好。薄膜厚度与光密度值直接相关，但是由于镀膜设备中石英晶振传感器的膜厚监视存在系统误差，膜厚控制存在10％的不确定度，镀制的滤光片的薄膜厚度与光密度都与设计值有一定的偏差，对于高精度光学器件，一种新的膜厚控制方法有待提出。

发明内容

鉴于目前中性密度滤光片的制备方法存在的上述不足，本申请提供一种高精度中性密度滤光片的制备方法，该制备方法通过霍尔离子源轰击的方法控制薄膜的厚度，可以制备高精度的中性密度滤光片。

为达到上述目的，本申请的实施例采用如下技术方案：

一种中性密度滤光片的制备方法，包括如下步骤：

根据所设滤光片的最大光密度值、最小光密度值和预设的膜台阶的数目确定每个膜台阶的预设光密度值；

根据每个膜台阶的预设光密度值和镀膜材料确定每个膜台阶的预设镀膜厚度；

按照膜台阶的预设镀膜厚度由小到大逐级镀膜，在基片上形成膜台阶，在镀膜的过程中，用遮挡板遮挡已经完成镀膜的膜台阶和不需要镀膜的区域；

每个膜台阶的镀膜完成后，测量对应膜台阶的光密度值，并与对应膜台阶的预设光密度值进行比对：

当测量的所述光密度值大于对应膜台阶的预设光密度值的时候，采用霍尔离子源用氩离子束轰击减薄对应膜台阶的实际镀膜厚度；

当测量的所述光密度值小于对应膜台阶的预设光密度值时，进行二次镀膜。