[发明专利]可变电阻式内存及其制造方法在审
申请号: | 201910698899.1 | 申请日: | 2019-07-31 |
公开(公告)号: | CN112310278A | 公开(公告)日: | 2021-02-02 |
发明(设计)人: | 白昌宗;林铭哲;刘奇青;赵鹤轩;郑嘉文 | 申请(专利权)人: | 华邦电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L45/00 | 分类号: | H01L45/00;H01L27/24 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 王涛;任默闻 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 本发明提供一种可变电阻式内存及其制造方法。该可变电阻式内存,包括:一下电极;一金属氧化层,形成于该下电极上,其中该金属氧化层包括多个导电丝区域,每一导电丝区域具有一底部与一顶部,且该底部的宽度大于该顶部的宽度,其中所述导电丝区域包括氧空缺,该金属氧化层中所述导电丝区域以外的区域为含氮区域;以及多个上电极,形成于该金属氧化层上,分别对应所述导电丝区域。 | ||
搜索关键词: | 可变 电阻 内存 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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