[发明专利]一种晶硅电池片链式碱抛光生产线以及链式碱抛光方法在审
| 申请号： | 201910697652.8 | 申请日： | 2019-07-30 |
| 公开（公告）号： | CN110534408A | 公开（公告）日： | 2019-12-03 |
| 发明（设计）人： | 吴章平;崔水炜 | 申请（专利权）人： | 苏州昊建自动化系统有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/02 | 分类号： | H01L21/02;H01L21/67;H01L31/18 |
| 代理公司： | 11250 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 | 代理人： | 郑越<国际申请>=<国际公布>=<进入国 |
| 地址： | 215000 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及太阳能电池制备技术领域，具体涉及一种晶硅电池片链式碱抛光生产线以及链式碱抛光方法，链式碱抛光生产线包括：封闭箱，所述封闭箱内依次设有相互连通的上料系统、第一酸洗系统、第一水洗系统、第一抛光系统、第二抛光系统、第二水洗系统、第二酸洗系统、第三水洗系统、烘干系统和出料系统，所述第一酸洗系统和所述第二酸洗系统均包括储酸槽，所述储酸槽内装有氢氟酸溶液，本发明还公开了一种晶硅电池片链式碱抛光方法。上述生产线在酸洗过程仅使用氢氟酸溶液作为清洗液，从源头上避免了NOx的生成，且不会排放含有HNO3的废水，能够有效解决晶硅太阳能电池制备过程中的环境污染问题。 | ||
| 搜索关键词： | 酸洗系统 链式 水洗系统 抛光生产线 氢氟酸溶液 硅电池片 抛光系统 抛光 储酸槽 种晶 晶硅太阳能电池 太阳能电池制备 环境污染问题 出料系统 烘干系统 上料系统 酸洗过程 有效解决 制备过程 封闭箱 清洗液 连通 废水 封闭 排放 源头 | ||
【主权项】：
1.一种晶硅电池片链式碱抛光生产线，其特征在于，包括：/n封闭箱(1)，所述封闭箱(1)内依次设有相互连通的上料系统(2)、第一酸洗系统(3)、第一水洗系统(4)、第一抛光系统(5)、第二抛光系统(6)、第二水洗系统(7)、第二酸洗系统(8)、第三水洗系统(9)、烘干系统(10)和出料系统(11)；/n所述第一酸洗系统(3)和所述第二酸洗系统(8)均包括储酸槽(12)，所述储酸槽(12)内装有氢氟酸溶液。/n
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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