[发明专利]气体生成方法及蚀刻装置有效
| 申请号： | 201910653202.9 | 申请日： | 2019-07-19 |
| 公开（公告）号： | CN110970282B | 公开（公告）日： | 2023-05-05 |
| 发明（设计）人： | 大参宏昌;安武洁;酒井伊都子;林久贵;福原成太;大内淳子;金高秀海 | 申请（专利权）人： | 铠侠股份有限公司;国立大学法人大阪大学 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/3065 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 周欣 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供能够容易并且以低成本形成长宽比高的图案的气体生成方法及蚀刻装置。基于本实施方式的气体生成方法是具备生成蚀刻气体的第1腔室和使用蚀刻气体进行蚀刻处理的第2腔室的蚀刻装置中的气体生成方法。向第1腔室中供给包含碳(C)及氟(F)的第1气体，使第1腔室内的压力比蚀刻处理时的第2腔室内的压力高。在第1腔室内，对第1气体施加高频电力由该第1气体生成包含碳(C)及氟(F)的第2气体。将第2气体作为蚀刻气体向第2腔室供给。 | ||
| 搜索关键词： | 气体 生成 方法 蚀刻 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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