[发明专利]场发射中和器有效
| 申请号: | 201910642704.1 | 申请日: | 2019-07-16 |
| 公开(公告)号: | CN112242276B | 公开(公告)日: | 2022-03-22 |
| 发明(设计)人: | 柳鹏;周段亮;张春海;潜力;王昱权;郭雪伟;马丽永;王福军;范守善 | 申请(专利权)人: | 清华大学;鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 |
| 主分类号: | H01J1/304 | 分类号: | H01J1/304;B82Y10/00;B82Y30/00 |
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| 地址: | 100084 北京市海淀区清*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | 本发明提供一种场发射中和器,包括一底板以及至少一个阴极发射单元固定在该底板的表面,该阴极发射单元包括一基板,一壳体,一阴极发射体,一栅网,以及一屏蔽层,所述壳体位于该基板上,该阴极发射体固定在该壳体内部并与该栅网绝缘间隔设置,该栅网与该屏蔽层绝缘间隔设置,该壳体具有一开口,该栅网包括多个栅孔,该屏蔽层具有一通孔,该开口、栅孔和通孔贯穿设置,所述阴极发射体包括一阴极基底以及一石墨化的碳纳米管阵列,该阴极基底包括一基底主体以及一粘结剂层,该石墨化的碳纳米管阵列通过该粘结剂层固定在该基底主体上,且石墨化的碳纳米管阵列中的碳纳米管基本垂直于该基底主体。 | ||
| 搜索关键词: | 发射 中和 | ||
【主权项】:
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