[发明专利]场发射中和器有效

专利信息
申请号: 201910642704.1 申请日: 2019-07-16
公开(公告)号: CN112242276B 公开(公告)日: 2022-03-22
发明(设计)人: 柳鹏;周段亮;张春海;潜力;王昱权;郭雪伟;马丽永;王福军;范守善 申请(专利权)人: 清华大学;鸿富锦精密工业(深圳)有限公司
主分类号: H01J1/304 分类号: H01J1/304;B82Y10/00;B82Y30/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100084 北京市海淀区清*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种场发射中和器,包括一底板以及至少一个阴极发射单元固定在该底板的表面,该阴极发射单元包括一基板,一壳体,一阴极发射体,一栅网,以及一屏蔽层,所述壳体位于该基板上,该阴极发射体固定在该壳体内部并与该栅网绝缘间隔设置,该栅网与该屏蔽层绝缘间隔设置,该壳体具有一开口,该栅网包括多个栅孔,该屏蔽层具有一通孔,该开口、栅孔和通孔贯穿设置,所述阴极发射体包括一阴极基底以及一石墨化的碳纳米管阵列,该阴极基底包括一基底主体以及一粘结剂层,该石墨化的碳纳米管阵列通过该粘结剂层固定在该基底主体上,且石墨化的碳纳米管阵列中的碳纳米管基本垂直于该基底主体。
搜索关键词: 发射 中和
【主权项】:
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