[发明专利]一种模板退火制备大面积规则排布金纳米颗粒阵列的方法在审
| 申请号： | 201910616119.4 | 申请日： | 2019-07-09 |
| 公开（公告）号： | CN110205587A | 公开（公告）日： | 2019-09-06 |
| 发明（设计）人： | 李丽霞;宗雪阳;包佳宇;刘玉芳 | 申请（专利权）人： | 河南师范大学 |
| 主分类号： | C23C14/18 | 分类号： | C23C14/18;C23C14/30;C23C14/58;C23C14/04;C25D11/04;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 新乡市平原智汇知识产权代理事务所(普通合伙) 41139 | 代理人： | 周闯 |
| 地址： | 453007 河*** | 国省代码： | 河南;41 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种模板退火制备大面积规则排布金纳米颗粒阵列的方法，采用两步阳极氧化处理方法在铝薄片上制备超博有序的氧化铝模板，并将氧化铝模板转移至硅衬底上；通过电子束蒸镀在氧化铝模板上沉积金膜；将沉积有金膜的氧化铝模板置于样品炉中并真空加热至500℃，随后进行模板退火处理，退火将引起金属薄膜除湿，并分裂成分散度良好、有序的金纳米颗粒阵列。本发明利用流体的不稳定性在氧化铝模板上自组装形成金纳米颗粒阵列，通过控制金属薄膜退火除湿过程，能够在软、硬基板上实现大面积光子结构的制备。 | ||
| 搜索关键词： | 氧化铝模板 退火 金纳米颗粒 制备 规则排布 金属薄膜 除湿 阳极氧化处理 电子束蒸镀 不稳定性 沉积金膜 光子结构 退火处理 真空加热 分散度 硅衬底 铝薄片 样品炉 硬基板 自组装 金膜 流体 沉积 分裂 | ||
【主权项】：
1.一种模板退火制备大面积规则排布金纳米颗粒阵列的方法，其特征在于具体过程为：步骤S1：采用两步阳极氧化处理方法在铝薄片上制备超博有序的氧化铝模板，并将氧化铝模板转移至硅衬底上；步骤S2：通过电子束蒸镀在氧化铝模板上沉积金膜；步骤S3：将沉积有金膜的氧化铝模板置于样品炉中并真空加热至500℃，随后进行模板退火处理，退火将引起金属薄膜除湿，并分裂成分散度良好、有序的金纳米颗粒阵列。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于河南师范大学，未经河南师范大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910616119.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
