[发明专利]一种低辐射阳光控制镀膜玻璃及其制备方法

摘要

本发明提供了一种低辐射阳光控制镀膜玻璃及制备方法，属于磁控溅射镀膜技术领域；本发明中，通过对镀膜玻璃镀膜层的优化设计，使本产品不仅对于可见光有适当的透射率，对红外线有较高的反射率，对紫外线有较高吸收率，具有低辐射性能，同时提高产品的耐氧化能力；一种低辐射阳光控制镀膜玻璃，包括玻璃基片层和镀膜层，所述镀膜层自所述玻璃基片层向外依次复合有五个膜层，其中第一层和第二层为第一电介质组合层，第三层为低辐射功能层，第四层和第五层为第二电介质组合层。本发明玻璃具有透射率适当、不会氧化，可单片使用等优点。

主权项

1.一种低辐射阳光控制镀膜玻璃，其特征在于，本镀膜玻璃包括玻璃基片层(G)和镀膜层，所述镀膜层自所述玻璃基片层(G)向外依次复合有五个膜层，其中第一层(1)和第二层(2)为第一电介质组合层，第三层(3)为低辐射功能层，第四层(4)和第五层(5)为第二电介质组合层。一种低辐射阳光控制镀膜玻璃，其特征在于，所述第一层(1)为SiNx层，所述第二层(2)为NiCr层,所述第三层(3)NB层，所述第四层(4)为NiCr层，所述第五层(5)为SiNx层。一种低辐射阳光控制镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，本方法包括如下步骤：1)、磁控溅射镀膜层；A、磁控溅射第一层(1)：靶材数量：交流旋转靶3～4个；靶材配置为硅铝(SiAl)；工艺气体比例：氩气和氮气，氩气和氮气的比例为1:1.14，溅射气压为3～5×10‑3mbar；镀膜厚度为20～100nm；B、磁控溅射第二层(2)：靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为镍铬(NiCr)；工艺气体比例：纯氩气，溅射气压为2～3×10‑3mbar；镀膜厚度为1～5nm；C、磁控溅射第三层(3)：靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为铌(Nb)；工艺气体比例：纯氩气，溅射气压为2～3×10‑3mbar；镀膜厚度为5～20nm；D、磁控溅射第四层(4)：靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为镍铬(NiCr)；工艺气体比例：纯氩气，溅射气压为2～3×10‑3mbar；镀膜厚度为1～5nm；E、磁控溅射第五层(5)：靶材数量：交流旋转靶4～6个；靶材配置为硅铝(SiAl)；工艺气体比例：氩气和氮气，氩气和氮气的比例为1:1.14，溅射气压为3～5×10‑3mbar；镀膜厚度为20～100nm；镀膜层总厚度控制在47‑230nm之间，溅射室传动走速控制在4.0‑5.0m/min。