[发明专利]一种双模态聚焦的环阵探头的制备方法及环阵探头有效
| 申请号: | 201910568485.7 | 申请日: | 2019-06-27 |
| 公开(公告)号: | CN110215230B | 公开(公告)日: | 2021-11-26 |
| 发明(设计)人: | 华扬;刘玉梅;李敏;孟凡超;赵志勇 | 申请(专利权)人: | 深圳市德力凯医疗设备股份有限公司 |
| 主分类号: | A61B8/00 | 分类号: | A61B8/00 |
| 代理公司: | 深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙) 44268 | 代理人: | 王永文;刘文求 |
| 地址: | 518055 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | 本发明公开了一种双模态聚焦的环阵探头的制备方法及环阵探头,所述方法包括:确定所需制备的环阵探头的基本参数,并根据所述基本参数确定阵元类型门限值;根据所述环阵类型门限值确定所需制备的环阵探头的阵元类型;采用所述阵元类型的阵元,并按照基本参数制备环阵探头。本发明在环阵探头基本参数确定的前提下,通过所述基本参数确定用于确定阵元类型的门限值,并人家所述门限值来环阵探头的阵元为平面阵元或凹面阵元,这样根据不同的基本参数选取不同的类型的阵元,使得所述环阵探头可以具有电子聚焦和/或自然聚焦两个模态,从而在保证轴向分辨率不变的前提下,提高要求的声场范围的横向分辨率和接收灵敏度。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 双模 聚焦 探头 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种双模态聚焦的环阵探头的制备方法,其特征在于,其包括:确定所需制备的环阵探头的基本参数,并根据所述基本参数确定阵元类型门限值;根据所述环阵类型门限值确定所需制备的环阵探头的阵元类型,其中,所述阵元类型包括平面阵元和凹面阵元;采用所述阵元类型的阵元,并按照基本参数制备环阵探头。
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