[发明专利]腐蚀液及从二类超晶格外延薄膜层去除锑化镓衬底的方法在审
| 申请号： | 201910560445.8 | 申请日： | 2019-06-26 |
| 公开（公告）号： | CN110373195A | 公开（公告）日： | 2019-10-25 |
| 发明（设计）人： | 李春领;肖钰;程雨;谭振;温涛;邢伟荣 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第十一研究所 |
| 主分类号： | C09K13/12 | 分类号： | C09K13/12 |
| 代理公司： | 工业和信息化部电子专利中心 11010 | 代理人： | 张然 |
| 地址： | 100015*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种腐蚀液及从二类超晶格外延薄膜层上去除锑化镓衬底的方法，腐蚀液用于去除二类超晶格外延薄膜层上的锑化镓衬底，腐蚀液包括：原料，至少包括以下之一：氢氟酸、磷酸；缓冲剂，至少包括以下之一：柠檬酸、乳酸、酒石酸；添加剂，包括含有高锰酸根离子的化合物、含有重铬酸根离子的化合物、或含有锰酸根离子与重铬酸根离子的混合物。采用本发明，通过选择对锑化镓腐蚀能力较小的主料，并配以缓冲剂和添加剂，用于去除二类超晶格外延薄膜层上的锑化镓衬底，可以避免现有技术中在去除锑化镓的过程中造成二类超晶格外延薄膜层被腐蚀去除的情况，实现了二类超晶格外延薄膜层的表面无损伤，成功地还原了二类超晶格外延薄膜层的表面状态。 | ||
| 搜索关键词： | 外延薄膜 超晶格 锑化镓 去除 腐蚀液 衬底 缓冲剂 离子 重铬酸根 添加剂 高锰酸根离子 腐蚀 柠檬酸 表面状态 混合物 酒石酸 锰酸根 氢氟酸 无损伤 磷酸 除锑 乳酸 主料 还原 成功 | ||
【主权项】：
1.一种腐蚀液，其特征在于，用于去除二类超晶格外延薄膜层上的锑化镓衬底，所述腐蚀液包括：原料，至少包括以下之一：氢氟酸、磷酸；缓冲剂，至少包括以下之一：柠檬酸、乳酸、酒石酸；添加剂，包括含有高锰酸根离子的化合物、含有重铬酸根离子的化合物、或含有锰酸根离子与重铬酸根离子的混合物。
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