[发明专利]堆叠式基于薄膜晶体管的嵌入式动态随机存取存储器在审
申请号: | 201910548386.2 | 申请日: | 2019-06-24 |
公开(公告)号: | CN110783337A | 公开(公告)日: | 2020-02-11 |
发明(设计)人: | A·A·夏尔马;J·G·阿尔萨特-维纳斯科;F·哈姆扎奥卢;B·塞尔;P-h·王;V·H·勒;J·T·卡瓦列罗斯;T·加尼;U·阿尔斯兰;T·W·拉乔伊;C-j·古 | 申请(专利权)人: | 英特尔公司 |
主分类号: | H01L27/108 | 分类号: | H01L27/108;H01L21/8242 |
代理公司: | 72002 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 邬少俊 |
地址: | 美国加*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本文描述的是使用TFT作为选择器晶体管的嵌入式动态随机存取存储器(eDRAM)单元的阵列。在将至少一些选择器晶体管实施为TFT时,可以在衬底上方的不同层中提供不同eDRAM单元,从而实现堆叠架构。示例性堆叠式基于TFT的eDRAM包括提供于衬底之上的第一层中的一个或多个存储器单元以及提供于所述第一层之上的第二层中的一个或多个存储器单元,其中,至少所述第二层中的存储器单元、但优选所述第一层和所述第二层两者中的存储器单元使用TFT作为选择器晶体管。堆叠式基于TFT的eDRAM允许增大具有给定占有面积的存储器阵列中的存储器单元的密度,或者相反,减小具有给定存储器单元密度的存储器阵列的占有面积。 | ||
搜索关键词: | 存储器单元 选择器晶体管 第一层 存储器阵列 堆叠式 衬底 嵌入式动态随机存取存储器 堆叠 减小 优选 架构 | ||
【主权项】:
1.一种集成电路(IC)器件,包括:/n在衬底之上的第一层中的第一存储器单元;以及/n在所述衬底之上的第二层中的第二存储器单元,其中,所述第一层在所述衬底和所述第二层之间,/n其中,所述第一存储器单元和所述第二存储器单元中的每者包括薄膜晶体管(TFT)。/n
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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