[发明专利]一种钨和氮化钛金属薄膜的蚀刻液及其使用方法有效
| 申请号： | 201910544828.6 | 申请日： | 2019-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN110195229B | 公开（公告）日： | 2021-05-14 |
| 发明（设计）人： | 李少平;张庭;贺兆波;王书萍;冯凯;尹印 | 申请（专利权）人： | 湖北兴福电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/26 | 分类号： | C23F1/26;C09K13/08 |
| 代理公司： | 宜昌市三峡专利事务所 42103 | 代理人： | 成钢 |
| 地址： | 443007 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种钨和氮化钛金属薄膜的蚀刻液及使用方法，主要成分包括磷酸、硝酸、醋酸、氟化合物、多元羧酸以及超纯水。首先，利用硝酸将钨和氮化钛氧化；醋酸是为了抑制硝酸的电离，提高体系的氧化能力（硝酸）；磷酸作为缓冲溶液，起到提供氢离子的作用，在蚀刻过程中保持蚀刻速率的稳定；氟化合物和多元羧酸胺作为钛离子和钨离子的络合剂，平衡氮化钛和钨的蚀刻速率。本发明的蚀刻液能同时蚀刻钨和氮化钛，并使钨和氮化钛的蚀刻速率差≤0.01 nm/min，基本保持一致。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 氮化 金属 薄膜 蚀刻 及其 使用方法 | ||
【主权项】：
1.一种钨和氮化钛金属薄膜的蚀刻液，其特征在于，所述的蚀刻液成分包括占蚀刻液总重量50‑80%的磷酸、0.1‑5%的硝酸、5‑15%的醋酸、0.01‑3%的氟化合物、0.01‑1%的多元羧酸以及1‑40%的水。
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