[发明专利]一种钨和氮化钛金属薄膜的蚀刻液及其使用方法有效

专利信息
申请号: 201910544828.6 申请日: 2019-06-21
公开(公告)号: CN110195229B 公开(公告)日: 2021-05-14
发明(设计)人: 李少平;张庭;贺兆波;王书萍;冯凯;尹印 申请(专利权)人: 湖北兴福电子材料有限公司
主分类号: C23F1/26 分类号: C23F1/26;C09K13/08
代理公司: 宜昌市三峡专利事务所 42103 代理人: 成钢
地址: 443007 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 氮化 金属 薄膜 蚀刻 及其 使用方法
【权利要求书】:

1.一种钨和氮化钛金属薄膜的蚀刻液,其特征在于,所述的蚀刻液成分包括占蚀刻液总重量50-80%的磷酸、0.1-5%的硝酸、5-15%的醋酸、0.01-3%的氟化合物、0.01-1%的多元羧酸以及1-40%的水,所述的多元羧酸为柠檬酸,所述的氟化合物为氢氟酸或氟化铵。

2.根据权利要求1所述的钨和氮化钛金属薄膜的蚀刻液,其特征在于,所述的蚀刻液主要成分包括占蚀刻液总重量65-75%的磷酸、0.5-3%的硝酸、8-12%的醋酸、0.01-1%的氟化合物、0.01-0.5%的多元羧酸以及10-20%的水。

3.根据权利要求1所述的钨和氮化钛金属薄膜的蚀刻液,其特征在于,所述的磷酸浓度为≥85%。

4.根据权利要求1-3任一项所述的钨和氮化钛金属薄膜的蚀刻液的使用方法,其特征在于,该蚀刻液的配制方法为,在PFA瓶中分别按顺序添加磷酸、多元羧酸、醋酸、硝酸、氟化合物,最后加入水将蚀刻液调至配制总量,采用搅拌或超声分散得到蚀刻液;将钨和氮化钛金属薄膜浸泡于蚀刻液中,在50-80℃下蚀刻30-100min即可完成蚀刻。

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