[发明专利]一种用于真空镀膜腔体内配件分离沉积膜层的方法在审
| 申请号: | 201910529605.2 | 申请日: | 2019-06-19 |
| 公开(公告)号: | CN110318038A | 公开(公告)日: | 2019-10-11 |
| 发明(设计)人: | 皇韶峰;朱豪杰 | 申请(专利权)人: | 江苏华恒新能源有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/34 | 分类号: | C23C16/34;C23C16/44;C23C16/50 |
| 代理公司: | 南京众联专利代理有限公司 32206 | 代理人: | 杜静静 |
| 地址: | 221000 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本发明涉及一种用于真空镀膜腔体内配件分离沉积膜层的方法,所述方法如下,将腔体温度升高到400℃‑450℃后,在将液氮冷却物通入,直到温度骤降到50℃后停止通入,降温过程限制在1min内,通过温控系统控制氮气通入与关闭。该技术方案用于实现真空镀膜腔体内配件分离沉积膜层,沉积膜层的快速分离,可以广泛运用于各种使用CVD或PVD的真空镀膜设备中。 | ||
| 搜索关键词: | 沉积膜层 真空镀膜腔 配件 体内 氮气 真空镀膜设备 降温过程 快速分离 温度骤降 温控系统 液氮冷却 腔体 | ||
【主权项】:
1.一种用于真空镀膜腔体内配件分离沉积膜层的方法,其特征在于,所述方法如下,将腔体温度升高到400℃‑450℃后,在将液氮冷却物通入,直到温度骤降到50℃后停止通入,降温过程限制在1min内,通过温控系统控制氮气通入与关闭。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江苏华恒新能源有限公司,未经江苏华恒新能源有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910529605.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:透光性SiC的制造方法
- 下一篇:切削工具及其制造方法
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





