[发明专利]一种磁流变抛光方法在审
| 申请号： | 201910521689.5 | 申请日： | 2019-06-17 |
| 公开（公告）号： | CN110181342A | 公开（公告）日： | 2019-08-30 |
| 发明（设计）人： | 吴勇波;王腾蛟;冯铭 | 申请（专利权）人： | 南方科技大学 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;B24B31/112;B24B41/06 |
| 代理公司： | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人： | 谢岳鹏 |
| 地址： | 518055 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及材料抛光技术领域，公开了一种磁流变抛光方法，包括如下步骤，固定抛光液与待抛光的工件；设置非均匀的工作电场使得所述抛光液中的磨粒朝所述工件的方向运动；对所述工件进行抛光。本发明中的磁流变抛光方法能够提高抛光液中磨粒的利用率，从而提高抛光效率，缩短抛光时间。 | ||
| 搜索关键词： | 磁流变抛光 抛光 抛光液 材料抛光 工作电场 抛光效率 非均匀 中磨粒 磨粒 | ||
【主权项】：
1.一种磁流变抛光方法，其特征在于，包括如下步骤，固定抛光液与待抛光的工件；设置非均匀的工作电场使得所述抛光液中的磨粒朝所述工件的方向运动；对所述工件进行抛光。
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