[发明专利]一种磁流变抛光方法

说明书

本发明涉及材料抛光技术领域，公开了一种磁流变抛光方法，包括如下步骤，固定抛光液与待抛光的工件；设置非均匀的工作电场使得所述抛光液中的磨粒朝所述工件的方向运动；对所述工件进行抛光。本发明中的磁流变抛光方法能够提高抛光液中磨粒的利用率，从而提高抛光效率，缩短抛光时间。

技术领域

本发明涉及材料抛光技术领域，尤其涉及一种磁流变抛光方法。

背景技术

随着科技的不断发展进步，在一些领域中对于产品的表面质量有了越来越高的要求，通常需要其具有极高的表面精度，其中表面粗糙度甚至需要达到纳米级别。为了达到上述要求，通常需要对产品的表面进行抛光，以提高其表面粗糙度。然而，传统的抛光技术能够达到的粗糙度有限，无法实现精准抛光，针对目前传统抛光方法的缺陷，磁流变抛光技术可以有效保证产品质量。

磁流变抛光技术的基本原理是：磁流变液在未加磁场时具有一定的流动性，当受到一定强度的磁场作用时，将会产生明显的磁流变效应，其粘度急剧增大，会从液体变成类似固体的状态，一旦去掉磁场，又变成流动的液体。磁流变抛光技术正是利用磁流变液在梯度磁场中形成的具有一定硬度的柔性磨头与产品之间进行快速的相对运动，使产品表面受到很大的剪切力，从而将产品表面材料去除，以达到抛光效果。磁流变抛光具有柔性磨头与产品表面吻合度高、加工确定性高、收敛效率稳定、边缘效应可控、亚表面破坏层小及加工适用性广等优点，因此，具有较好的应用前景。然而，现有的磁流变抛光技术存在磨粒利用率低，抛光效率低，抛光时间长等缺陷。

发明内容

为了克服现有技术的不足，本发明提供一种磁流变抛光方法，能够提高抛光液中磨粒的利用率，从而提高抛光效率，缩短抛光时间。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：

提供了一种磁流变抛光方法，包括如下步骤，

固定抛光液与待抛光的工件；

设置非均匀的工作电场使得所述抛光液中的磨粒朝所述工件的方向运动；

对所述工件进行抛光。

作为上述技术方案的改进，沿所述抛光液至所述工件的方向，所述工作电场的电场强度逐渐增大。

作为上述技术方案的进一步改进，所述工作电场的电场强度≥400V/mm，且所述工作电场的平均电场强度≤1000V/mm。

作为上述技术方案的进一步改进，固定所述抛光液的方法为：设置载液部，通过设置工作磁场使所述抛光液附着于所述载液部上。

作为上述技术方案的进一步改进，产生所述工作磁场的方法为：通过设置产磁件，在所述载液部与所述工件之间产生所述工作磁场。

作为上述技术方案的进一步改进，所述工作磁场搅动所述抛光液，以使得所述抛光液中的所述磨粒的位置发生改变。

作为上述技术方案的进一步改进，产生所述工作磁场的方法为：使所述产磁件相对于所述载液部做偏心圆周运动。

作为上述技术方案的进一步改进，固定所述工件的方法为：设置承载部，将所述工件固定于所述承载部上。

作为上述技术方案的进一步改进，对所述工件进行抛光的方法为：使所述抛光液相对于所述工件转动。

作为上述技术方案的进一步改进，使所述工件相对于所述抛光液移动以变换抛光区域，或者，使所述工件相对于所述抛光液移动及转动以变换抛光区域。

本发明至少具有的有益效果是：本发明中的磁流变抛光方法能够提高抛光液中磨粒的利用率，从而提高抛光效率，缩短抛光时间。

附图说明

下面结合附图和实施例对本发明进一步说明：