[发明专利]一种激光直写光刻系统有效
| 申请号： | 201910514619.7 | 申请日： | 2019-06-14 |
| 公开（公告）号： | CN110187610B | 公开（公告）日： | 2021-05-14 |
| 发明（设计）人： | 付跃刚;吴锦双 | 申请（专利权）人： | 长春理工大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 长春市盈创中成知识产权代理事务所(普通合伙) 22215 | 代理人： | 季建文 |
| 地址： | 130000 吉*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种激光直写光刻系统，具体涉及微纳光学结构图案的改进技术领域。该激光直写光刻系统包括同轴线依次设置的激光器、扩束准直器、谐振腔和图像传感器，谐振腔类似于万花筒式，谐振腔包括第一凹面镜、第二凹面镜、多边形孔、输出耦合器和三面反射镜体，第一凹面镜和第二凹面镜组成谐振腔的两端，在其共焦平面形成阵列图形，多边形孔位于第一凹面镜的正前方，三面反射镜体围成谐振腔的侧壁，输出耦合器位于第一凹面镜和第二凹面镜的自共轭平面。多边形孔可以为圆形、正多边形或不规则多边形，多边形孔为对称阵列结构的基本单元。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 激光 光刻 系统 | ||
【主权项】：
1.一种激光直写光刻系统，其特征在于，包括同轴线依次设置的激光器、扩束准直器、谐振腔和图像传感器，所述谐振腔包括第一凹面镜、第二凹面镜、多边形孔、输出耦合器和三面反射镜体，第一凹面镜和第二凹面镜组成谐振腔的两端，在其共焦平面形成阵列图形，多边形孔位于第一凹面镜的正前方，三面反射镜体围成谐振腔的侧壁 ，输出耦合器位于第一凹面镜和第二凹面镜的自共轭平面。
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