[发明专利]一种激光直写光刻系统有效

专利信息
申请号: 201910514619.7 申请日: 2019-06-14
公开(公告)号: CN110187610B 公开(公告)日: 2021-05-14
发明(设计)人: 付跃刚;吴锦双 申请(专利权)人: 长春理工大学
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 长春市盈创中成知识产权代理事务所(普通合伙) 22215 代理人: 季建文
地址: 130000 吉*** 国省代码: 吉林;22
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摘要:
搜索关键词: 一种 激光 光刻 系统
【权利要求书】:

1.一种激光直写光刻系统,其特征在于,包括同轴线依次设置的激光器、扩束准直器、谐振腔和图像传感器,所述谐振腔包括第一凹面镜、第二凹面镜、多边形孔、输出耦合器和三面反射镜体,第一凹面镜和第二凹面镜组成谐振腔的两端,在其共焦平面形成阵列图形,多边形孔位于第一凹面镜的正前方,三面反射镜体围成谐振腔的侧壁,输出耦合器位于第一凹面镜和第二凹面镜的自共轭平面。

2.如权利要求1所述的一种激光直写光刻系统,其特征在于,所述多边形孔为圆形、正多边形或不规则多边形,多边形孔为对称阵列结构的基本单元。

3.如权利要求1所述的一种激光直写光刻系统,其特征在于,所述三面反射镜体由三片镜面构成三角形,根据角度的不同分为正三角形、等腰直角三角形、直角三角形或等腰三角形, 三面反射镜体所成像的阵列个数随着两片镜体的夹角而变化。

4.如权利要求3所述的一种激光直写光刻系统,其特征在于,将所述三面反射镜体每两镜间的夹角记为θ,θ的整数倍等于360度,即Nθ=360,夹角越小,所阵列的图形越多。

5.如权利要求1所述的一种激光直写光刻系统,其特征在于,所述激光器发出的激光束经扩束准直器后,射入到谐振腔中,在谐振腔中经过多次反射,最后通过图像传感器采集得到谐振腔中形成的对称结构的连续性阵列图形。

6.如权利要求1所述的一种激光直写光刻系统,其特征在于,所述第一凹面镜的曲率半径为R1,对应的焦距为F=R1/2,第二凹面镜的曲率半径分别为R2,对应的焦距为F=R2/2。

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