[发明专利]气相沉积设备及其控制方法、腔体清洁方法

摘要

本申请公开了一种气相沉积设备及其控制方法、腔体清洁方法，气相沉积设备通过向腔体内通入由预设气体形成的气体脉冲，并且通过提供射频脉冲信号，将进入腔体内部的气体脉冲电离产生等离子体，以使等离子体对腔体的不同部位进行清洁，避免了湿法清洁过程需要在腔体处于室温进行而造成的清洁用时较长，清洁效率低下以及容易引入二次污染的问题。并且气相沉积设备块可以提供不同频率的电平脉冲信号，以控制通入腔体的气体脉冲的频率，还可以提供不同功率的射频脉冲信号，通过控制电平脉冲信号的频率、射频脉冲信号的功率以及腔体压强，可以实现对腔体内用于清洁的等离子体的运动方向和所处位置的控制，从而实现对腔体内部不同部位的全方位清洁。

主权项

1.一种气相沉积设备，其特征在于，包括：腔体，所述腔体包括贯穿所述腔体外壁和内壁的第一连接端和第二连接端以及贯穿所述腔体外壁的第三连接端，所述第三连接端暴露出所述腔体内壁；设置于所述腔体内部，且覆盖所述第一连接端和第二连接端的脉冲电磁阀；通过所述第二连接端与所述脉冲电磁阀连接的气箱，所述气箱中用于存储预设气体；通过所述第一连接端与所述脉冲电磁阀连接的信号发生模块，所述信号发生模块用于向所述脉冲电磁阀提供不同频率的电平脉冲信号；所述脉冲电磁阀用于根据所述电平脉冲信号，控制所述气箱中的预设气体以气体脉冲的形式进入所述腔体内部；通过所述第三连接端与所述腔体内壁连接的射频发生模块，所述射频发生模块用于提供不同功率的射频脉冲信号，以使进入所述腔体内部的气体脉冲电离产生等离子体，所述等离子体根据所述射频脉冲信号的功率、腔体压强和所述电平脉冲信号的频率对所述腔体的不同部位进行清洁。