[发明专利]掩膜版的设计方法、制作方法和设计系统有效
| 申请号： | 201910498038.9 | 申请日： | 2019-06-10 |
| 公开（公告）号： | CN110188502B | 公开（公告）日： | 2023-06-27 |
| 发明（设计）人： | 段芳芳;梁少端;杨晓宇;嵇凤丽 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G06F30/392 | 分类号： | G06F30/392 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;刘伟 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种掩膜版的设计方法、制作方法和设计系统，该设计方法包括：对蒸镀过程进行模拟仿真，蒸镀过程采用待补偿的掩膜版蒸镀膜层，掩膜版包括框架和固定在框架上的掩膜版本体，掩膜版本体包括交叉设置的多条掩膜条，交叉设置的多条掩膜条限定出多个开口；蒸镀过程结束后，提取每一掩膜条在第一方向和第二方向上的位置偏差数据，第一方向和第二方向为掩膜版的长度方向和宽度方向；根据位置偏差数据，对掩膜版进行位置偏移补偿，得到补偿后的掩膜版的设计数据。本发明可以对蒸镀过程中因热和力耦合导致掩膜版产生的不均匀形变进行预补偿，降低掩膜版上的开口的位置与基板上的相应的位置之间的偏差，改善实际蒸镀膜层边界与设计值的差异。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜版 设计 方法 制作方法 系统 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜版的设计方法，其特征在于，包括：对蒸镀过程进行模拟仿真，所述蒸镀过程采用待补偿的掩膜版蒸镀膜层，所述掩膜版包括框架和固定在所述框架上的掩膜版本体，所述掩膜版本体包括交叉设置的多条掩膜条，交叉设置的多条掩膜条限定出多个开口；所述蒸镀过程结束后，提取每一所述掩膜条在第一方向和第二方向上的位置偏差数据，所述第一方向和第二方向为所述掩膜版的长度方向和宽度方向；根据所述位置偏差数据，对所述掩膜版进行位置偏移补偿，得到补偿后的掩膜版的设计数据。
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