[发明专利]一种高性能石墨烯薄膜及其制备方法在审
| 申请号： | 201910472951.1 | 申请日： | 2019-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN110171816A | 公开（公告）日： | 2019-08-27 |
| 发明（设计）人： | 刘少华;任国峰 | 申请（专利权）人： | 任国峰 |
| 主分类号： | C01B32/184 | 分类号： | C01B32/184;C01B32/194 |
| 代理公司： | 上海尚象专利代理有限公司 31335 | 代理人： | 徐炫 |
| 地址： | 063000 河北省唐山市路北区*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种高性能石墨烯薄膜及其制备方法，该薄膜的原料包含：石墨烯材料85％～99％，还原剂0.1％～10％，表面活性剂0.1％～1％，添加剂0.1％～5％。该薄膜的制备方法包含：步骤1，按比例称取各原料；步骤2，制备改性氧化石墨烯浆料；步骤3，将所得的浆料抽真空，过滤水分，使氧化石墨烯形成一层薄膜；步骤4，制备还原剂溶液，并将氧化石墨烯薄膜通过还原剂溶液，还原成石墨烯薄膜；步骤5，将添加剂溶于溶剂中制备反应溶液，将石墨烯薄膜通过装有反应溶液的反应槽，然后再将其置于紫外光环境下照射。本发明制备的石墨烯薄膜具有优异的抗菌、抗紫外、远红外等功能，极大地扩展了应用范围，具有广阔的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 石墨烯薄膜 制备 薄膜 氧化石墨烯 浆料 添加剂 氧化石墨烯薄膜 制备反应溶液 表面活性剂 还原剂溶液 石墨烯材料 制备还原剂 紫外光 反应溶液 制备改性 抽真空 反应槽 还原剂 远红外 溶剂 称取 抗菌 过滤 还原 应用 照射 | ||
【主权项】：
1.一种高性能石墨烯薄膜，其特征在于，所述的薄膜的原料按质量百分比计包含：石墨烯材料85％～99％，还原剂0.1％～10％，表面活性剂0.1％～1％，添加剂0.1％～5％。
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