[发明专利]一种高性能石墨烯薄膜及其制备方法在审
申请号: | 201910472951.1 | 申请日: | 2019-05-31 |
公开(公告)号: | CN110171816A | 公开(公告)日: | 2019-08-27 |
发明(设计)人: | 刘少华;任国峰 | 申请(专利权)人: | 任国峰 |
主分类号: | C01B32/184 | 分类号: | C01B32/184;C01B32/194 |
代理公司: | 上海尚象专利代理有限公司 31335 | 代理人: | 徐炫 |
地址: | 063000 河北省唐山市路北区*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 石墨烯薄膜 制备 薄膜 氧化石墨烯 浆料 添加剂 氧化石墨烯薄膜 制备反应溶液 表面活性剂 还原剂溶液 石墨烯材料 制备还原剂 紫外光 反应溶液 制备改性 抽真空 反应槽 还原剂 远红外 溶剂 称取 抗菌 过滤 还原 应用 照射 | ||
本发明公开了一种高性能石墨烯薄膜及其制备方法,该薄膜的原料包含:石墨烯材料85%~99%,还原剂0.1%~10%,表面活性剂0.1%~1%,添加剂0.1%~5%。该薄膜的制备方法包含:步骤1,按比例称取各原料;步骤2,制备改性氧化石墨烯浆料;步骤3,将所得的浆料抽真空,过滤水分,使氧化石墨烯形成一层薄膜;步骤4,制备还原剂溶液,并将氧化石墨烯薄膜通过还原剂溶液,还原成石墨烯薄膜;步骤5,将添加剂溶于溶剂中制备反应溶液,将石墨烯薄膜通过装有反应溶液的反应槽,然后再将其置于紫外光环境下照射。本发明制备的石墨烯薄膜具有优异的抗菌、抗紫外、远红外等功能,极大地扩展了应用范围,具有广阔的应用前景。
技术领域
本发明涉及一种薄膜及其制备方法,具体地,涉及一种高性能石墨烯薄膜及其制备方法。
背景技术
石墨烯是从石墨中剥离出来的单层碳原子材料,由碳原子紧密堆积成单层二维蜂窝状晶格结构,它是人类已知的厚度最薄、质地最坚硬、导电性最好的材料。石墨烯具有优异的力学、光学和电学性质,结构非常稳定,迄今为止研究者尚未发现石墨烯中有碳原子缺失的情况,碳原子之间的链接非常柔韧,比钻石还坚硬,强度比世界上最好的钢铁还要高上100倍,如果用石墨烯制成包装袋,它将能承受大约两吨重的物品,几乎完全透明,却极为致密,不透水、不透气,即使原子尺寸最小的氦气也无法通过,导电性能好,石墨烯中电子的运动速度达到了光速的1/300,导电性超过了任何传统的导电材料,化学性质类似石墨表面,可以吸附和脱附各种原子和分子,还有抵御强酸强碱的能力。同时石墨烯还具有优异的抗菌功能,应用在薄膜中,所得的石墨烯薄膜不仅强度高,还可有效避免细菌滋生,未来可应用在包括航空航天等在内的众多领域。
发明内容
本发明的目的是提供一种薄膜及其制备方法,在室温条件下通过还原氧化石墨烯的方法,制备一种高性能石墨烯薄膜。该石墨烯薄膜具备较好的拉伸强度、导电性能以及抗疲劳性能。同时石墨烯薄膜还具有优异的抗菌、抗紫外、远红外等功能,极大地扩展了石墨烯薄膜的应用范围,具有广阔的应用前景。
为了达到上述目的,本发明提供了一种高性能石墨烯薄膜,其中,所述的薄膜的原料按质量百分比计包含:石墨烯材料85%~99%,还原剂0.1%~10%,表面活性剂0.1%~1%,添加剂0.1%~5%。
上述的高性能石墨烯薄膜,其中,所述的石墨烯材料包含采用Brodie法、Staudenmaier法、氧化还原法制备的任意一种氧化石墨烯。
上述的高性能石墨烯薄膜,其中,所述的还原剂包含水合肼、硼氢化钠、氨水、氢碘酸等中的任意一种或多种。
上述的高性能石墨烯薄膜,其中,所述的表面活性剂包含聚乙烯醇、聚乙二醇、木质素磺酸钠、聚乙烯吡络烷酮(PVP)、十二烷基吡咯烷酮、十二烷基磺酸钠、二甲基甲酰胺(DMF)等中的任意一种或多种。
上述的高性能石墨烯薄膜,其中,所述的添加剂由包含顺-13,16-二十二碳二烯酸甲酯、顺-4,7,10,13,16,19-二十二碳六烯酸甲酯、10,12-二十二碳二炔二酸二芘甲酯、十七烷酸甲酯、反亚油酸甲酯、顺-11,14,17-二十碳三烯酸甲酯、二十碳烯酸甲酯等中的任意一种或多种单体聚合而成。
本发明还提供了上述的高性能石墨烯薄膜的制备方法,其中,所述的方法包含:步骤1,按比例称取各原料;步骤2,制备改性氧化石墨烯浆料;步骤3,将步骤2所得的浆料抽真空,过滤水分,使氧化石墨烯形成一层薄膜;步骤4,制备还原剂溶液,并将步骤3所得的氧化石墨烯薄膜通过还原剂溶液,将氧化石墨烯薄膜还原成石墨烯薄膜;步骤5,将添加剂溶于溶剂中制备反应溶液,再倒入反应槽中,将步骤4所得的石墨烯薄膜通过装有反应溶液的反应槽,然后再将其置于紫外光环境下照射,得到高性能石墨烯薄膜。
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