[发明专利]一种改善翘曲程度的MEMS结构有效
| 申请号： | 201910461223.0 | 申请日： | 2019-05-30 |
| 公开（公告）号： | CN110212805B | 公开（公告）日： | 2020-12-25 |
| 发明（设计）人： | 康晓旭 | 申请（专利权）人： | 上海集成电路研发中心有限公司 |
| 主分类号： | H02N1/00 | 分类号： | H02N1/00 |
| 代理公司： | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人： | 吴世华;张磊 |
| 地址： | 201210 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种改善翘曲程度的MEMS结构，所述MEMS结构包括悬空部件，所述悬空部件上设有多层电极层，所述电极层包括所述悬空部件自身所需的连接电极层，以及设于所述连接电极层以外的形变电极层，所述形变电极层为空心的夹状结构，其夹头与所述连接电极层绝缘相连；其中，利用施加在所述连接电极层和形变电极层上的电压所产生的相互吸引或排斥作用，使所述形变电极层的夹角变大或变小，以对所述连接电极层产生压应力或张应力，实现所述悬空部件的表面平整。本发明可通过形变电极层对梁或者微桥的形变进行调节，从而实现对悬空部件表面平整的控制。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 改善 程度 mems 结构 | ||
【主权项】：
1.一种改善翘曲程度的MEMS结构，其特征在于，所述MEMS结构包括悬空部件，所述悬空部件上设有多层电极层，所述电极层包括所述悬空部件自身所需的连接电极层，以及设于所述连接电极层以外的形变电极层，所述形变电极层为空心的夹状结构，其夹头与所述连接电极层绝缘相连；其中，利用施加在所述连接电极层和形变电极层上的电压所产生的相互吸引或排斥作用，使所述形变电极层的夹角变大或变小，以对所述连接电极层产生压应力或张应力，实现所述悬空部件的表面平整。
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