[发明专利]一种羟基磷灰石及其制备方法与应用有效
| 申请号： | 201910444449.X | 申请日： | 2019-05-27 |
| 公开（公告）号： | CN110078038B | 公开（公告）日： | 2022-12-06 |
| 发明（设计）人： | 夏方诠;李娅;张树君 | 申请（专利权）人： | 淄博新维陶瓷科技有限公司 |
| 主分类号： | C01B25/32 | 分类号： | C01B25/32;A61K47/02;A61L27/12;A61L27/32 |
| 代理公司： | 济南誉丰专利代理事务所(普通合伙企业) 37240 | 代理人： | 赵凤 |
| 地址： | 255000 山东省淄博市高新区柳*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种羟基磷灰石块体的制备方法，包括如下步骤：将羟基磷灰石粉体加入纯净水，进行冷烧结压片处理，制得羟基磷灰石块体；所述羟基磷灰石粉体与纯净水的固液比为1g：(0.1‑0.3)ml；在冷烧结压片处理中，压力为8‑10MPa，温度为80‑120℃，压片时间为18‑22h。本发明能够在没有表面活性剂的参与下，在低温条件下即可制备出单晶态高纯度羟基磷灰石块体，提高了产品的纯度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 羟基 磷灰石 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
1.一种羟基磷灰石块体的制备方法，其特征在于，步骤如下：将羟基磷灰石粉体加入纯净水，进行冷烧结压片处理，制得羟基磷灰石块体；所述羟基磷灰石粉体与纯净水的固液比为1g：(0.1‑0.3)ml；在冷烧结压片处理中，压力为8‑10MPa，温度为80‑120℃，压片时间为18‑22h。
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