[发明专利]一种铜合金镀层及其制备方法在审
| 申请号： | 201910441677.1 | 申请日： | 2019-05-24 |
| 公开（公告）号： | CN110055504A | 公开（公告）日： | 2019-07-26 |
| 发明（设计）人： | 张文远 | 申请（专利权）人： | 深圳金曜来科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/10;C23C14/16;C23C14/06;C23C14/18 |
| 代理公司： | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人： | 肖丽 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市宝安*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种铜合金镀层及其制备方法。所述铜合金镀层包括镀制于铜合金基材表面的铬膜层与复合膜层，铬膜层位于铜合金基材与复合膜层之间，复合膜层包括交替层叠设置的多层功能性膜与多层二氧化硅膜，并且，复合膜层中与铬膜层接触的薄膜为功能性膜，二氧化硅膜的材料为无定型二氧化硅。铜合金镀层中，铬膜层作为保护性钝化膜，二氧化硅膜中的无定型二氧化硅能阻滞电子的流动，因此，铬膜层与二氧化硅膜配合能够共同对铜合金基材与功能性膜之间的电子流动形成阻隔效应，阻止铜合金基材与功能性膜之间的电子流动产生的原电池效应，从而避免铜合金镀层出现腐蚀现象。 | ||
| 搜索关键词： | 铜合金 铬膜层 镀层 二氧化硅膜 复合膜层 功能性膜 基材 无定型二氧化硅 多层 制备 原电池效应 电子流动 基材表面 交替层叠 钝化膜 镀制 阻滞 薄膜 阻隔 腐蚀 流动 配合 | ||
【主权项】：
1.一种铜合金镀层，其特征在于，包括镀制于铜合金基材表面的铬膜层与复合膜层，所述铬膜层位于所述铜合金基材与所述复合膜层之间，所述复合膜层包括交替层叠设置的多层功能性膜与多层二氧化硅膜，并且，所述复合膜层中与所述铬膜层接触的薄膜为所述功能性膜，所述二氧化硅膜的材料为无定型二氧化硅。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳金曜来科技有限公司，未经深圳金曜来科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910441677.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
