[发明专利]一种层间通道尺寸可控的耐溶胀二维层状膜、制备及应用有效
| 申请号： | 201910436029.7 | 申请日： | 2019-05-23 |
| 公开（公告）号： | CN110280147B | 公开（公告）日： | 2021-11-16 |
| 发明（设计）人： | 王琎;朱甲妮;王磊;张治杰;杨冰;王旭东 | 申请（专利权）人： | 西安建筑科技大学 |
| 主分类号： | B01D71/34 | 分类号： | B01D71/34;B01D71/26;B01D71/18;B01D71/02;B01D67/00 |
| 代理公司： | 西安恒泰知识产权代理事务所 61216 | 代理人： | 李婷;金艳婷 |
| 地址： | 710055*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种层间通道尺寸可控的耐溶胀二维层状膜、制备及应用，首先将二维纳米片沉积在基底表面，得到原状层状薄膜；然后将原状层状薄膜浸入溶剂中溶胀后，置于NaOH和AlCl |
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| 搜索关键词： | 一种 通道 尺寸 可控 耐溶胀 二维 层状 制备 应用 | ||
【主权项】：
1.一种层间通道尺寸可控的耐溶胀二维层状膜制备方法，其特征在于，包括：将二维纳米片沉积在基底表面，得到原状层状薄膜；将原状层状薄膜浸入溶剂中溶胀后，置于NaOH和AlCl3的混合液中浸泡，得到二维层状薄膜。
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