[发明专利]光刻胶涂布装置在审
| 申请号： | 201910399895.3 | 申请日： | 2019-05-14 |
| 公开（公告）号： | CN110133966A | 公开（公告）日： | 2019-08-16 |
| 发明（设计）人： | 刘庆超;徐丽芝;颜廷彪;黄志凯;叶日铨 | 申请（专利权）人： | 德淮半导体有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 吴敏 |
| 地址： | 223302 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种光刻胶涂布装置，包括腔底座、腔身、腔顶盖，所述腔底座、所述腔身以及所述腔顶盖构成涂布腔室；涂布溅射区，位于所述腔顶盖内壁，且所述涂布溅射区的材料为亲水性润湿材料。亲水性材质可以减小液体与所述亲水性材质表面的接触角，从而使液体不易沾粘在所述涂布溅射区，增大了液体流动性；当进行涂布工艺时，由于离心力而飞出混合液体到达所述涂布溅射区更容易流动排出，避免产生堆积，减少反溅，从而提高所述涂布装置的工作效率。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射区 光刻胶涂布装置 亲水性材质 顶盖 腔身 底座 液体流动性 顶盖内壁 工作效率 混合液体 润湿材料 涂布工艺 涂布腔室 涂布装置 接触角 亲水性 减小 排出 堆积 流动 | ||
【主权项】：
1.一种光刻胶涂布装置，其特征在于，包括：腔底座、腔身、腔顶盖，所述腔底座、所述腔身以及所述腔顶盖构成涂布腔室；所述腔顶盖内壁包括涂布溅射区，且所述涂布溅射区的材料为亲水性润湿材料。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于德淮半导体有限公司，未经德淮半导体有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910399895.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
