[发明专利]一种硫内酯的合成方法

摘要

本发明公开了一种硫内酯的合成方法。本发明的合成方法，其包括如下步骤：将化合物II与硫代试剂在惰性气体保护下进行如下所示的反应得到化合物I即可。本发明的合成方法不用添加任何有机溶剂作为反应溶剂即可反应完全，操作和后处理简便，产品纯度高，收率高，环境污染小，具有良好的工业化应用前景。

主权项

1.一种硫内酯的合成方法，其特征在于，其包括如下步骤：将化合物II与硫代试剂在惰性气体保护下进行如下所示的反应得到化合物I即可；其中，X和Y各自独立的为氢、未取代或R^1‑1取代的C₁～C₂₀烷基、未取代或R^1‑2取代的C₆～C₁₀芳基、未取代或R^1‑3取代的C₅～C₂₀杂芳基，或者X和Y与其相连的碳原子一起形成未取代或R^1‑4取代的C₃～C₁₀杂环烷基；所述的C₃～C₁₀杂环烷基中，杂原子选自N、O和S中的一种或多种，杂原子数为1‑3个；所述的取代的C₃～C₁₀杂环烷基中的“取代”为C₃～C₁₀杂环烷基中的一个或多个氢被R^1‑4取代；当存在多个R^1‑1取代时，所述的取代相同或不同；当存在多个R^1‑2取代时，所述的取代相同或不同；当存在多个R^1‑3取代时，所述的取代相同或不同；当存在多个R^1‑4取代时，所述的取代相同或不同；R^1‑1为甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基或叔丁基、正庚基、正十一烷基、苄基、对甲氧基苄基、苯乙基或对氯苯乙基；R^1‑2为苯基、对氯苯基、对甲氧基苯基或萘基；R^1‑3为4‑吡啶基、2‑吡啶基、2‑呋喃基或2‑噻吩基；R^1‑4取为＝O、＝S、‑OH、‑SH或＝NZ，其中Z为氢、C₁～C₂₀烷基、C₁～C₂₀环烷基、C₆～C₁₀芳基。