[发明专利]反熔丝存储单元及其形成方法在审
申请号: | 201910388649.8 | 申请日: | 2019-05-10 |
公开(公告)号: | CN111916423A | 公开(公告)日: | 2020-11-10 |
发明(设计)人: | 李雄 | 申请(专利权)人: | 长鑫存储技术有限公司 |
主分类号: | H01L23/525 | 分类号: | H01L23/525;H01L27/112;H01L21/768;H01L21/8246 |
代理公司: | 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 | 代理人: | 孙佳胤;高德志 |
地址: | 230001 安徽省合肥市蜀山*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 一种反熔丝存储单元及其形成方法,所述反熔丝存储单元包括:半导体衬底;位于所述半导体衬底中的有源区,所述有源区包括互连区和条状区,所述条状区位于互连区一侧并与互连区连接;覆盖所述有源区全部表面的栅介质层;位于所述栅介质层上的上电极层,所述上电极层完全覆盖所述有源区表面上的栅介质层;贯穿所述上电极层和栅介质层且与所述互连区连接的第一接触插塞;与所述上电极层连接的第二接触插塞。本发明的反熔丝存储单元的编程电压降低。 | ||
搜索关键词: | 反熔丝 存储 单元 及其 形成 方法 | ||
【主权项】:
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