[发明专利]发光二极管及其形成方法有效

专利信息
申请号: 201910359906.5 申请日: 2019-04-30
公开(公告)号: CN110047978B 公开(公告)日: 2020-10-02
发明(设计)人: 曾颀尧;李若雅;邢琨;纪秉夆;陈柏松 申请(专利权)人: 芜湖德豪润达光电科技有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01L33/02;H01L33/06;H01L33/12;H01L33/32
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 景怀宇;李双皓
地址: 241000 安徽省*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明涉及一种发光二极管及其形成方法。一种发光二极管的形成方法,包括:提供衬底,所述衬底具有相对设置的第一表面和第二表面;制备N型半导体层,覆盖所述第一表面;制备多量子阱结构层,覆盖所述N型半导体层;制备能带扭曲结构层,覆盖所述多量子阱结构层,所述能带扭曲结构层包括P型氮化铝铟镓层、U型氮化铝铟镓层和N型氮化铝铟镓层,所述U型氮化铝铟镓层覆盖所述P型氮化铝铟镓层,所述N型氮化铝铟镓层覆盖所述U型氮化铝铟镓层;以及制备P型半导体层,覆盖所述能带扭曲结构层。该发光二极管可以使空穴集中于能带扭曲结构层,从而提升空穴数量,进而提升电子空穴的复合几率,提升发光二极管的发光效率。
搜索关键词: 发光二极管 及其 形成 方法
【主权项】:
1.一种发光二极管的形成方法,其特征在于,包括:提供衬底(100),所述衬底(100)具有相对设置的第一表面(102)和第二表面(104);制备N型半导体层(200),覆盖所述第一表面(102);制备多量子阱结构层(300),覆盖所述N型半导体层(200);制备能带扭曲结构层(400),覆盖所述多量子阱结构层(300),所述能带扭曲结构层(400)包括P型氮化铝铟镓层(412)、U型氮化铝铟镓层(414)和N型氮化铝铟镓层(416),所述U型氮化铝铟镓层(414)覆盖所述P型氮化铝铟镓层(412),所述N型氮化铝铟镓层(416)覆盖所述U型氮化铝铟镓层(414);以及制备P型半导体层(500),覆盖所述能带扭曲结构层(400)。
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