[发明专利]一种高掺杂MoOx基光热转换涂层及其制备方法在审
申请号: | 201910354975.7 | 申请日: | 2019-04-29 |
公开(公告)号: | CN109972111A | 公开(公告)日: | 2019-07-05 |
发明(设计)人: | 王成兵;王伟;苏进步;凌三;李政通;李威 | 申请(专利权)人: | 陕西科技大学 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/08;C23C14/02;C23C14/10;C23C14/58;F24S70/225 |
代理公司: | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人: | 徐文权 |
地址: | 710021 *** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明提供的一种高掺杂MoOx基光热转换涂层及其制备方法,包括基底上按照由下至上的顺序依次设置的高吸收层和减反射层;高吸收层为高金属Mo纳米颗粒掺杂的MoOx复合薄膜,其采用单钼靶的磁控溅射技术来制备,在制备过程中,氧气来源于残余的空气,非常有限的氧原子仅仅与少数的钼原子反应形成氧化钼,形成一种吸收涂层;减反射层为介质性质的MoOx和SiO2层;这种双层的梯度结构,由于光的干涉作用,该梯度结构能有效吸收太阳光,增强涂层的光吸收效率;这种双层的MoOx基涂层具有结构简单,制备成本低,易扩展的特点,简化了涂层的制备工艺,适用于低价、大规模的工业化生产。 | ||
搜索关键词: | 制备 光热转换涂层 减反射层 梯度结构 高掺杂 吸收层 磁控溅射技术 光吸收效率 复合薄膜 介质性质 纳米颗粒 吸收涂层 依次设置 有效吸收 制备工艺 制备过程 残余的 掺杂的 高金属 基涂层 太阳光 氧化钼 氧原子 钼原子 基底 钼靶 氧气 干涉 | ||
【主权项】:
1.一种高掺杂MoOx基光热转换涂层,其特征在于,包括基底(1),所述基底(1)上按照由下至上的顺序依次设置的高吸收层(2)和减反射层(3),其中,基底(1)为具有红外反射功能的基底,所述高吸收层(2)为MoOx层,减反射层(3)为MoOx或SiO2介质层。
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