[发明专利]一种双层WOx基光热转换涂层及其制备方法在审
| 申请号： | 201910354949.4 | 申请日： | 2019-04-29 |
| 公开（公告）号： | CN109972110A | 公开（公告）日： | 2019-07-05 |
| 发明（设计）人： | 王成兵;李佳鑫;王伟;苏进步;凌三;李政通 | 申请（专利权）人： | 陕西科技大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/08;C23C14/10;C23C14/02;F24S70/20 |
| 代理公司： | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人： | 徐文权 |
| 地址： | 710021 *** | 国省代码： | 陕西;61 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供的一种双层WOx基光热转换涂层，包括基底，基底上按照由下至上的顺序依次设置的高吸收层和减反射层，其中，高吸收层为WOx层，减反射层为WOx或SiO2介质层；其采用单钨靶的磁控溅射技术来制备，在制备过程中，氧气来源于残余的空气，非常有限的氧原子仅仅与少数的钨原子反应形成氧化钨，形成一种吸收涂层；减反射层为介质性质的WOx和SiO2层；这种双层的梯度结构，由于光的干涉作用，该梯度结构能有效吸收太阳光，增强涂层的光吸收效率；这种双层的WOx基涂层具有结构简单，制备成本低，易扩展的特点，简化了涂层的制备工艺，适用于低价、大规模的工业化生产。 | ||
| 搜索关键词： | 减反射层 制备 光热转换涂层 梯度结构 吸收层 基底 磁控溅射技术 光吸收效率 介质性质 吸收涂层 依次设置 有效吸收 制备工艺 制备过程 残余的 基涂层 介质层 太阳光 钨原子 氧化钨 氧原子 钨靶 氧气 干涉 | ||
【主权项】：
1.一种双层WOx基光热转换涂层，其特征在于，包括基底(1)，基底(1)上按照由下至上的顺序依次设置的高吸收层(2)和减反射层(3)，其中，高吸收层(2)为WOx层；减反射层(3)为WOx或SiO2介质层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于陕西科技大学，未经陕西科技大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910354949.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种新型磁控溅射装置
- 下一篇：一种高掺杂MoOx基光热转换涂层及其制备方法
- 同类专利
- 专利分类
