[发明专利]绝热性遮蔽构件和具备该构件的单晶制造装置有效
| 申请号： | 201910335471.0 | 申请日： | 2019-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN110408997B | 公开（公告）日： | 2021-05-25 |
| 发明（设计）人： | 藤川阳平 | 申请（专利权）人： | 昭和电工株式会社 |
| 主分类号： | C30B29/36 | 分类号： | C30B29/36;C30B23/00 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 刘航;段承恩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的绝热性遮蔽构件，是在单晶制造装置(10)中配置于原料收纳部(3)与基板支承部(4)之间而被使用的构件，所述单晶制造装置(10)是从原料收纳部(3)使原料(M)升华从而在基板(S)上使原料(M)的单晶(W)生长的装置，其具备结晶生长用容器(2)、和配置于该结晶生长用容器(2)的外周的加热单元(5)，结晶生长用容器(2)具备位于其下部的原料收纳部(3)、和配置于原料收纳部(3)的上方而以与原料收纳部(3)对向的方式支承结晶生长用基板(S)的基板支承部(4)。 | ||
| 搜索关键词： | 绝热 遮蔽 构件 具备 制造 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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