[发明专利]抛物面的绘制方法、装置、设备及存储介质有效
| 申请号： | 201910331621.0 | 申请日： | 2019-04-23 |
| 公开（公告）号： | CN110047137B | 公开（公告）日： | 2023-02-21 |
| 发明（设计）人： | 王防修 | 申请（专利权）人： | 武汉轻工大学 |
| 主分类号： | G06T17/00 | 分类号： | G06T17/00 |
| 代理公司： | 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 | 代理人： | 胡海国 |
| 地址： | 430023 湖北省武*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明属于数学计算技术领域，公开了一种抛物面的绘制方法、装置、设备及存储介质。该方法包括：获取待绘制的抛物面对应的抛物面方程数据；根据抛物面方程数据，确定抛物面对应的抛物面模型；对预先构建的抛物面模型库进行遍历，将遍历到的当前预设抛物面模型与抛物面模型进行比较；若抛物面模型与预设抛物面模型相同，则从抛物面方程数据中提取与空间坐标系参数存在关联性的第一绘图参数和第二绘图参数；根据第一绘图参数，确定抛物面对应的抛物面类型；根据抛物面类型，查找抛物面对应的绘图坐标模型；根据第一绘图参数、第二绘图参数和绘图坐标模型，绘制抛物面。通过上述方式，解决了现有技术中抛物面绘制要求高、难度大的技术问题。 | ||
| 搜索关键词： | 抛物面 绘制 方法 装置 设备 存储 介质 | ||
【主权项】：
1.一种抛物面的绘制方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：获取待绘制的抛物面对应的抛物面方程数据；根据所述抛物面方程数据，确定所述抛物面对应的抛物面模型；对预先构建的抛物面模型库进行遍历，将遍历到的当前预设抛物面模型与所述抛物面模型进行比较；若所述抛物面模型与所述预设抛物面模型相同，则从所述抛物面方程数据中提取与空间坐标系参数存在关联性的第一绘图参数和第二绘图参数，所述第一绘图参数为与所述空间坐标系参数做乘法运算的参数，所述第二绘图参数为与所述空间坐标系参数做减法运算的参数；根据所述第一绘图参数，确定所述抛物面对应的抛物面类型；根据所述抛物面类型，查找所述抛物面对应的绘图坐标模型；根据所述第一绘图参数、所述第二绘图参数和所述绘图坐标模型，绘制所述抛物面。
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