[发明专利]抛物面的绘制方法、装置、设备及存储介质

权利要求书

1.一种抛物面的绘制方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：

获取待绘制的抛物面对应的抛物面方程数据；

根据所述抛物面方程数据，确定所述抛物面对应的抛物面模型；

对预先构建的抛物面模型库进行遍历，将遍历到的当前预设抛物面模型与所述抛物面模型进行比较；

若所述抛物面模型与所述预设抛物面模型相同，则从所述抛物面方程数据中提取与空间坐标系参数存在关联性的第一绘图参数和第二绘图参数，所述第一绘图参数为与所述空间坐标系参数做乘法运算的参数，所述第二绘图参数为与所述空间坐标系参数做减法运算的参数；

根据所述第一绘图参数，确定所述抛物面对应的抛物面类型；

根据所述抛物面类型，查找所述抛物面对应的绘图坐标模型；

根据所述第一绘图参数、所述第二绘图参数和所述绘图坐标模型，绘制所述抛物面；

所述空间坐标系参数为空间坐标系中的参数x、参数y和参数z，所述第一绘图参数包括与所述参数x做乘法运算的第一变量和第二变量、与所述参数y做乘法运算的第三变量和第四变量，以及与所述参数z做乘法运算的第五变量和第六变量；

所述根据所述第一绘图参数，确定所述抛物面对应的抛物面类型的步骤，包括：

对所述第一变量、所述第二变量、所述第五变量和所述第六变量做乘法运行，得到第一乘积；对所述第三变量、所述第四变量、所述第五变量和所述第六变量做乘法运行，得到第二乘积；对所述第一变量、所述第二变量、所述第三变量和所述第四变量做乘法运行，得到第三乘积；对所述第三变量、所述第四变量、所述第五变量和所述第六变量做乘法运行，得到第四乘积；

确定所述参数x对应的方程数据、所述参数y对应的方程数据和所述参数z对应的方程数据的阶数；

若所述参数x对应的方程数据和所述参数y对应的方程数据为二阶，所述参数z对应的方程数据为一阶，且所述第一乘积和所述第二乘积均小于0，则确定所述抛物面对应的抛物面类型为以所述参数z对应的z轴为旋转轴的椭圆抛物面类型；

若所述参数x对应的方程数据和所述参数y对应的方程数据为二阶，所述参数z对应的方程数据为一阶，且所述第一乘积和所述第二乘积中的任意一个乘积大于0，另一个小于0，则确定所述抛物面对应的抛物面类型为双曲抛物面类型；

若所述参数x对应的方程数据和所述参数z对应的方程数据为二阶，所述参数y对应的方程数据为一阶，且所述第三乘积和所述第四乘积均小于0，则确定所述抛物面对应的抛物面类型为以所述参数y对应的y轴为旋转轴的椭圆抛物面类型；

若所述参数x对应的方程数据和所述参数z对应的方程数据为二阶，所述参数y对应的方程数据为一阶，且所述第三乘积和所述第四乘积中的任意一个乘积大于0，另一个小于0，则确定所述抛物面对应的抛物面类型为双曲抛物面类型；

若所述参数y对应的方程数据和所述参数z对应的方程数据为二阶，所述参数x对应的方程数据为一阶，且所述第三乘积和所述第一乘积均小于0，则确定所述抛物面对应的抛物面类型为以所述参数x对应的x轴为旋转轴的椭圆抛物面类型；

若所述参数y对应的方程数据和所述参数z对应的方程数据为二阶，所述参数x对应的方程数据为一阶，且所述第三乘积和所述第一乘积中的任意一个乘积大于0，另一个小于0，则确定所述抛物面对应的抛物面类型为双曲抛物面类型。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述抛物面方程数据，确定所述抛物面对应的抛物面模型的步骤，包括：

从所述抛物面方程数据中分离出所述空间坐标系参数对应的方程数据；

按照预设的变量转换规则，将各空间坐标系参数对应的方程数据中的第一绘图参数和第二绘图参数替换为预设符号；

按照预设排列规则，对进行预设符合替换后的各方程数据进行排列，得到所述抛物面对应的抛物面模型。

3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述从所述抛物面方程数据中分离出所述空间坐标系参数对应的方程数据的步骤之前，所述方法还包括：

将所述抛物面方程数据转化为字符串，并过滤所述字符串中的非法字符，得到第一字符串；

其中，所述从所述抛物面方程数据中分离出所述空间坐标系参数对应的方程数据的步骤，包括：

从所述第一字符串中分离出所述空间坐标系参数对应的方程数据。