[发明专利]光催化层、光催化体及光催化体的制造方法在审

专利信息
申请号: 201910330239.8 申请日: 2019-04-23
公开(公告)号: CN110404529A 公开(公告)日: 2019-11-05
发明(设计)人: 佐藤武史;川濑德隆 申请(专利权)人: 夏普株式会社
主分类号: B01J23/30 分类号: B01J23/30;B01J23/652;B01J23/68;B01J23/888
代理公司: 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 代理人: 汪飞亚;习冬梅
地址: 日本国大*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种抑制光催化粒子的脱离并且提升光催化性能的光催化层。光催化层10具有表面10a、及与表面10a为相反侧的背面10b。光催化层10包含光催化粒子20及粘合剂30。光催化层10具有含有光催化粒子20的第一区域1、及含有粘合剂30且不含光催化粒子20的第二区域2。光催化粒子20包含氧化钨粒子。光催化粒子20具有与背面10b接触的接触点201。第二区域2的厚度T相对于光催化粒子20的数量平均二次粒径L的比率T/L为0.20以上且0.80以下。
搜索关键词: 光催化粒子 光催化层 粘合剂 第二区域 光催化体 背面 平均二次粒径 光催化性能 氧化钨粒子 第一区域 接触点 相反侧 脱离 制造
【主权项】:
1.一种光催化层,具有表面、及与所述表面为相反侧的背面,其特征在于:包含光催化粒子及粘合剂,具有含有所述光催化粒子的第一区域、及含有所述粘合剂且不含所述光催化粒子的第二区域,所述光催化粒子包含氧化钨粒子,所述光催化粒子具有与所述背面接触的接触点,所述第二区域的厚度T相对于所述光催化粒子的数量平均二次粒径L的比率T/L为0.20以上且0.80以下。
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