[发明专利]OLED显示面板及其制备方法有效
申请号: | 201910327794.5 | 申请日: | 2019-04-23 |
公开(公告)号: | CN110164923B | 公开(公告)日: | 2021-03-16 |
发明(设计)人: | 姜云龙 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L27/12;H01L21/77 |
代理公司: | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 黄威 |
地址: | 518132 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种OLED显示面板及制备方法,包括玻璃基板、第一底栅极、光遮挡层、缓冲层、第一多晶硅层、第二多晶硅层、栅极绝缘层、第一顶栅极、第二顶栅极、层间绝缘层、第一源极、第一漏极、第二源极、第二漏极、钝化层、平坦化层、像素电极、像素定义层、OLED发光器件以及阴极金属层;所述第一源极经由过孔与所述第一底栅极相接触,所述第二源极经由另一过孔与所述光遮挡层相接触。 | ||
搜索关键词: | oled 显示 面板 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种OLED显示面板,其特征在于,包括:玻璃基板;第一底栅极,设于所述玻璃基板上;光遮光层,设于所述玻璃基板上并与所述第一底栅极间隔设置;缓冲层,设于所述玻璃基板上并覆盖所述第一底栅极以及所述光遮光层;第一多晶硅层,设于所述缓冲层的表面并位于所述第一底栅极的上方,所述第一多晶硅层的两侧区域经离子掺杂形成第一离子掺杂多晶硅层;第二多晶硅层,设于所述缓冲层的表面并与所述第一多晶硅层间隔设置,第二多晶硅层位于所述光遮光层的上方,所述第二多晶硅层的两侧区域经所述离子掺杂形成第二离子掺杂多晶硅层;栅极绝缘层,设于所述缓冲层上并完全覆盖所述第一多晶硅层以及所述第二多晶硅层;第一顶栅极,设于所述栅极绝缘层上并位于所述第一多晶硅层的上方;第二顶栅极,设于所述栅极绝缘层上并位于所述第二多晶硅层的上方,所述第二顶栅极与所述第一顶栅极间隔设置;层间绝缘层,设于所述栅极绝缘层上并覆盖所述第一顶栅极以及所述第二顶栅极;第一源极以及第一漏极,位于所述第一顶栅极两侧;第二源极以及第二漏极,位于所述第二顶栅极两侧;钝化层,设于所述层间绝缘层上并覆盖第一源极、第一漏极、第二源极以及第二漏极;平坦化层,设于所述钝化层上;像素电极,设于所述平坦化层上并与所述第二漏极相接触;像素定义层,设于所述平坦化层上并与所述像素电极的边缘两侧相接触;OLED发光器件,设于所述像素电极上;阴极金属层,设于所述OLED发光器件上;其中,所述第一源极经由过孔与所述第一底栅极相接触,所述第二源极经由另一过孔与所述光遮挡层相接触。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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