[发明专利]一种光罩及其制作方法在审
| 申请号： | 201910316553.0 | 申请日： | 2019-04-19 |
| 公开（公告）号： | CN110133960A | 公开（公告）日： | 2019-08-16 |
| 发明（设计）人： | 徐一建;倪凌云;梁凤云;吴爱娅;李恒杰 | 申请（专利权）人： | 德淮半导体有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/40 | 分类号： | G03F1/40 |
| 代理公司： | 上海领洋专利代理事务所(普通合伙) 31292 | 代理人： | 吴靖靓 |
| 地址： | 223300 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明技术方案公开了一种光罩及其制作方法，所述光罩的制作方法包括：提供包括若干主图形和冗余图形的光罩版图；筛选出易发生静电释放的两相邻主图形；形成连接冗余图形与所述两相邻主图形中面积较小的主图形的辅助图形，所述辅助图形的宽度小于光刻机的分辨率。本发明技术方案利用辅助图形将相邻两主图形之间静电释放的电荷引至冗余图形中，避免了因静电释放而对主图形造成的损伤，提高了产品良率。 | ||
| 搜索关键词： | 主图形 光罩 辅助图形 静电释放 冗余图形 制作 产品良率 电荷 光刻机 分辨率 损伤 筛选 | ||
【主权项】：
1.一种光罩的制作方法，其特征在于，包括：提供包括若干主图形和冗余图形的光罩版图；筛选出易发生静电释放的两相邻主图形；形成连接冗余图形与所述两相邻主图形中面积较小的主图形的辅助图形，所述辅助图形的宽度小于光刻机的分辨率。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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