[发明专利]光刻胶补液装置及光刻胶补液方法在审
| 申请号： | 201910303493.9 | 申请日： | 2019-04-16 |
| 公开（公告）号： | CN110083016A | 公开（公告）日： | 2019-08-02 |
| 发明（设计）人： | 刘庆超;徐丽芝;颜廷彪;黄志凯;叶日铨 | 申请（专利权）人： | 德淮半导体有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16 |
| 代理公司： | 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 | 代理人： | 孙佳胤 |
| 地址： | 223300 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 该发明涉及一种光刻胶补液装置及光刻胶补液方法，其中所述光刻胶补液装置包括：补液管路，用于传输光刻胶至喷嘴，供所述喷嘴喷出；真空泵，输入端和输出端分别通过两段连接管路连通至所述补液管路，所述真空泵、两段连接管路以及两段连接管路之间的补液管路构成一循环回路，所述真空泵用于使光刻胶在所述循环回路内循环流动；温控器，设置在所述循环回路上，用于控制流经所述循环回路的光刻胶的温度；过滤器，安装至所述真空泵，用于滤除流经所述真空泵的光刻胶内的气泡。所述光刻胶补液装置及光刻胶补液方法能够减少光刻胶内的气泡，使光刻胶被喷涂到硅抛光片表面时形成的光刻胶膜的膜厚均匀，能大大的减少晶圆制备过程中的缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻胶 真空泵 补液装置 循环回路 补液管路 连接管路 补液 两段 过滤器 光刻胶膜 硅抛光片 膜厚均匀 制备过程 喷嘴 传输光 内循环 喷嘴喷 输出端 输入端 温控器 喷涂 晶圆 连通 滤除 流动 | ||
【主权项】：
1.一种光刻胶补液装置，其特征在于，包括：补液管路，用于传输光刻胶至喷嘴，供所述喷嘴喷出；真空泵，输入端和输出端分别通过两段连接管路连通至所述补液管路，所述真空泵、两段连接管路以及两段连接管路之间的补液管路构成一循环回路，所述真空泵用于使光刻胶在所述循环回路内循环流动；温控器，设置在所述循环回路上，用于控制流经所述循环回路的光刻胶的温度；过滤器，安装至所述真空泵，用于滤除流经所述真空泵的光刻胶内的气泡。
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