[发明专利]一种新型磁控溅射装置在审
| 申请号： | 201910300386.0 | 申请日： | 2019-04-15 |
| 公开（公告）号： | CN109972109A | 公开（公告）日： | 2019-07-05 |
| 发明（设计）人： | 褚天舒 | 申请（专利权）人： | 湖畔光电科技（江苏）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/54 |
| 代理公司： | 南京中高专利代理有限公司 32333 | 代理人： | 吕波 |
| 地址： | 213200 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及磁控溅射设备技术领域，特别是一种新型磁控溅射装置，包括溅射腔室和螺线管，所述溅射腔室内左右两侧设置有靶材，所述螺线管均匀分布在靶材背部及溅射腔室底部，各螺线管均与电源电连接；所述靶材背部连接有靶材倾斜角度调整装置。采用上述结构后，本发明可实现两种靶材的混合使用，有利于开创新型靶材材料，提高镀膜品质；另外，对比已有溅射设备，可通过调整内部磁场，大大提高靶材利用率。 | ||
| 搜索关键词： | 靶材 螺线管 溅射腔室 溅射装置 新型磁控 倾斜角度调整装置 磁控溅射设备 靶材利用率 电源电连接 靶材材料 背部连接 镀膜品质 溅射设备 左右两侧 溅射腔 磁场 室内 | ||
【主权项】：
1.一种新型磁控溅射装置，包括溅射腔室和螺线管，其特征在于：所述溅射腔室内左右两侧设置有靶材，所述螺线管均匀分布在靶材背部及溅射腔室底部，各螺线管均与电源电连接；所述靶材背部连接有靶材倾斜角度调整装置。
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