[发明专利]一种新型磁控溅射装置

说明书

本发明涉及磁控溅射设备技术领域，特别是一种新型磁控溅射装置，包括溅射腔室和螺线管，所述溅射腔室内左右两侧设置有靶材，所述螺线管均匀分布在靶材背部及溅射腔室底部，各螺线管均与电源电连接；所述靶材背部连接有靶材倾斜角度调整装置。采用上述结构后，本发明可实现两种靶材的混合使用，有利于开创新型靶材材料，提高镀膜品质；另外，对比已有溅射设备，可通过调整内部磁场，大大提高靶材利用率。

技术领域

本发明涉及磁控溅射设备技术领域，特别是一种新型磁控溅射装置。

背景技术

现有磁控溅射设备内部磁场无法改变且分布不均，使得靶材利用不均，镀膜品质和镀膜效率不高。

中国发明专利CN 107794496 A公开了一种磁控溅射镀膜设备和一种磁控溅射镀膜方法，其中磁控溅射镀膜设备包括：用于产生磁场的螺线管；以及靶，所述靶的至少一部分在使用中位于螺线管中，并且用于将所述靶的材料溅射到物体的表面上。磁控溅射镀膜方法包括：提供用于产生磁场的螺线管；将内表面需要溅射镀膜的管插入螺线管中；将靶插入管中；封闭管的两端，以形成封闭的内腔；以及为靶供电，以将所述靶的材料溅射到管的内表面上。

发明内容

本发明需要解决的技术问题是提供一种可以有效提高靶材利用率、镀膜效率及镀膜品质的磁控溅射装置。

为解决上述技术问题，本发明的一种新型磁控溅射装置，包括溅射腔室和螺线管，所述溅射腔室内左右两侧设置有靶材，所述螺线管均匀分布在靶材背部及溅射腔室底部，各螺线管均与电源电连接；所述靶材背部连接有靶材倾斜角度调整装置。

优选的，所述靶材倾斜角度调整装置为连接在靶材背部下端的伸缩杆。

采用上述结构后，本发明可实现两种靶材的混合使用，有利于开创新型靶材材料，提高镀膜品质；另外，对比已有溅射设备，可通过调整内部磁场，大大提高靶材利用率。

附图说明

下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细的说明。

图1为本发明溅射腔室示意图。

图2为本发明靶材倾斜示意图。

图3为本发明螺线管示意图。

图中：1为基板，2为螺线管，3为靶材，4为伸缩杆。

具体实施方式

如图1和图2所示，本发明的一种新型磁控溅射装置，包括溅射腔室和螺线管2，溅射腔室内上端固定有基板1。所述溅射腔室内设置有靶材3，所述螺线管2均匀分布在靶材1背部及溅射腔室底部，各螺线管2均与电源电连接。如图3所示，各螺线管2均可单独通电，形成电磁棒。通过调整各螺线管的通电情况可控制整个溅射腔室的磁场分布。所述靶材背部连接有靶材倾斜角度调整装置，本实施方式中靶材倾斜角度调整装置为连接在靶材背部下端的伸缩杆4。

如图2所示，基于此，可使左右两块靶材放置不同的材料，通过控制伸缩杆4的长短，从而调整靶材3的倾斜角度。基于此，左右可放置不同的靶材材料，根据各材料性质区别，可调整靶材倾斜角度，配合溅射腔室磁场分布，找到各材料最佳镀膜方案，实现靶材混合使用，提高镀膜质量及镀膜效率。

虽然以上描述了本发明的具体实施方式，但是本领域熟练技术人员应当理解，这些仅是举例说明，可以对本实施方式作出多种变更或修改，而不背离本发明的原理和实质，本发明的保护范围仅由所附权利要求书限定。