[发明专利]掩模板及其制备方法有效
| 申请号： | 201910286060.7 | 申请日： | 2019-04-10 |
| 公开（公告）号： | CN109825802B | 公开（公告）日： | 2021-01-26 |
| 发明（设计）人： | 吕文旭;王永茂;张文畅;周俊吉;郭登俊;马超;伍青峰 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/04;C23C14/12;C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 张雨竹 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明的实施例提供一种掩模板及其制备方法，涉及蒸镀技术领域，可改善掩模板角位置处的混色现象，提高产品良率。一种掩模板的制备方法，包括：将多个第一掩模条依次间隔固定于第一掩模板框架上，每个第一掩模条均跨设于第一掩模板框架的中空区域，且第一掩模条的两端与第一掩模板框架固定；除最靠近第一掩模板框架的第一边和第二边的两个第一掩模条外，其余第一掩模条的延伸方向与第一掩模板框架的第一边平行，第一边和第二边相对；分别靠近第一边和第二边的第一掩模条相对其余第一掩模条倾斜设置，且倾斜角度根据蒸镀偏差计算得到。 | ||
| 搜索关键词： | 模板 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种掩模板的制备方法，其特征在于，包括：将多个第一掩模条依次间隔固定于第一掩模板框架上，其中，每个所述第一掩模条均跨设于所述第一掩模板框架的中空区域，且所述第一掩模条的两端与所述第一掩模板框架固定；除最靠近所述第一掩模板框架的第一边和第二边的两个第一掩模条外，其余所述第一掩模条的延伸方向与所述第一掩模板框架的所述第一边平行，所述第一边和所述第二边相对；分别靠近所述第一边和所述第二边的所述第一掩模条相对其余所述第一掩模条倾斜设置，且倾斜角度根据蒸镀偏差计算得到。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司，未经京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910286060.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：掩膜板周转装置
- 下一篇：环境友好半导体材料Mg2Ge薄膜的制备方法
- 同类专利
- 专利分类
