[发明专利]掩模板及其制备方法

权利要求书

1.一种掩模板的制备方法，其特征在于，包括：

将多个第一掩模条依次间隔固定于第一掩模板框架上，其中，每个所述第一掩模条均跨设于所述第一掩模板框架的中空区域，且所述第一掩模条的两端与所述第一掩模板框架固定；

除最靠近所述第一掩模板框架的第一边和第二边的两个第一掩模条外，其余所述第一掩模条的延伸方向与所述第一掩模板框架的所述第一边平行，所述第一边和所述第二边相对；分别靠近所述第一边和所述第二边的所述第一掩模条相对其余所述第一掩模条倾斜设置，且倾斜角度根据蒸镀偏差计算得到，其中，分别靠近所述第一边和所述第二边的所述第一掩模条的倾斜角度通过如下方法获得：

采用测试掩模板进行蒸镀工艺，其中，所述测试掩模板包括所述第一掩模板框架以及多个间隔且平行设置的第二掩模条；所述第二掩模条的个数与所述第一掩模条的个数相等，且所述第二掩模条的延伸方向与所述第一掩模板框架的第一边平行；

通过图像传感器获取靠近所述第一边的所述第二掩模条沿其延伸方向两侧边缘的两个蒸镀孔的坐标，分别为(x1，y1)和(x2，y2)；以及，获取靠近所述第二边的所述第二掩模条沿其延伸方向两侧边缘的两个蒸镀孔的坐标，分别为(x3，y3)和(x4，y4)；

通过图像传感器获取与该四个蒸镀孔对应的蒸镀图案的坐标；

根据该四个蒸镀孔的坐标以及该四个蒸镀孔对应的蒸镀图案的坐标，计算得到该四个蒸镀孔中每个蒸镀孔蒸镀后的偏差；

通过每个蒸镀孔蒸镀后的偏差，将该四个蒸镀孔的坐标分别修正为(x1′，y1′)、(x2′，y2′)、(x3′，y3′)、(x4′，y4′)；

根据坐标(x1′，y1′)和(x2′，y2′)，获取靠近所述第一边的所述第一掩模条的倾斜角度；

根据坐标(x3′，y3′)和(x4′，y4′)，获取靠近所述第二边的所述第一掩模条的倾斜角度。

2.根据权利要求1所述的掩模板的制备方法，其特征在于，相对所述第一边的方向，分别靠近所述第一边和所述第二边的所述第一掩模条各自沿顺时针或逆时针方向转动一定角度呈倾斜设置。

3.根据权利要求1所述的掩模板的制备方法，其特征在于，根据坐标(x1′，y1′)和(x2′，y2′)，获取靠近所述第一边的所述第一掩模条的倾斜角度，包括：

以靠近所述第一边的所述第二掩模条的中心点为原点，建立直角坐标系，其中，第一边的方向为X轴方向，与第一边的方向垂直的方向为Y轴方向；

根据坐标(x1′，y1′)的位置，在该直角坐标系，获取该位置对应的坐标(x1″，y1″)；根据(x2′，y2′)的位置，在该直角坐标系，获取该位置对应的坐标(x2″，y2″)；

靠近所述第一边的所述第一掩模条的倾斜角度其中，a为张网机的修正系数。

4.根据权利要求1所述的掩模板的制备方法，其特征在于，根据坐标(x3′，y3′)和(x4′，y4′)，获取靠近所述第二边的所述第一掩模条的倾斜角度，包括：

以靠近所述第二边的所述第二掩模条的中心点为原点，建立直角坐标系，其中，第一边的方向为X轴方向，与第一边的方向垂直的方向为Y轴方向；

根据坐标(x3′，y3′)的位置，在该直角坐标系，获取该位置对应的坐标(x3″，y3″)；根据(x4′，y4′)的位置，在该直角坐标系，获取该位置对应的坐标(x4″，y4″)；

靠近所述第二边的所述第一掩模条的倾斜角度其中，a为张网机的修正系数。

5.根据权利要求1所述的掩模板的制备方法，其特征在于，靠近所述第一边的所述第二掩模条沿其延伸方向两侧边缘的两个蒸镀孔的形状，与该第二掩模条中其他蒸镀孔的形状不同；

靠近所述第二边的所述第二掩模条沿其延伸方向两侧边缘的两个蒸镀孔的形状，与该第二掩模条中其他蒸镀孔的形状不同。

6.根据权利要求1所述的掩模板的制备方法，其特征在于，在将每个所述第一掩模条固定于所述第一掩模板框架之前，所述掩模板的制备方法还包括：

对所述第一掩模板框架进行对位。