[发明专利]基板研磨系统有效
| 申请号： | 201910279708.8 | 申请日： | 2019-04-09 |
| 公开（公告）号： | CN110666676B | 公开（公告）日： | 2023-01-17 |
| 发明（设计）人： | 朱宗泰;金橡贤;郑皓天;金在烈 | 申请（专利权）人： | 凯斯科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/10 | 分类号： | B24B37/10;B24B37/20;B24B37/30;B24B37/34 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 姜虎;陈英俊 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种基板研磨系统，所述基板研磨系统在分别搭载基板的多个基板承载架进行移动的同时，在套于研磨盘的研磨垫上进行研磨工序，在为此所需的所有工序中，按基板承载架分别监控基板承载架的移动路径及位置、运转状态。由此，本发明可以获得提高基板研磨工序的监控效率、能够准确地识别和管理发生错误的基板承载架的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 系统 | ||
【主权项】：
1.一种基板研磨系统，用于对包括第一基板和第二基板在内的多个基板进行研磨工序，其特征在于，包括：/n研磨垫，其套于研磨盘上；/n多个基板承载架，其包括第一基板承载架和第二基板承载架，所述第一基板承载架以搭载第一基板的状态移动，在所述研磨垫上，以将所述第一基板接触于所述研磨垫的状态进行研磨工序，所述第二基板承载架以搭载第二基板的状态移动，在所述研磨垫上，以将所述第二基板接触于所述研磨垫的状态进行研磨工序；/n监控单元，其识别所述基板承载架，并对包括位置在内的信息进行监控。/n
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